钟国仿

作品数:7被引量:46H指数:4
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供职机构:北京科技大学材料科学与工程学院更多>>
发文主题:金刚石金刚石膜CVD大面积金刚石膜稀土金属更多>>
发文领域:理学一般工业技术金属学及工艺化学工程更多>>
发文期刊:《高技术通讯》《河北省科学院学报》更多>>
所获基金:国家高技术研究发展计划更多>>
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大面积金刚石膜的均匀沉积被引量:1
《北京科技大学学报》2000年第5期467-469,共3页黄天斌 刘敬明 唐伟忠 钟国仿 蒋政 吕反修 
国家"863"高科技资助!715-002-Z030
研究了大面积金刚石膜沉积过程中的均匀性问题和金刚石膜质量的均匀性问题.研究表明:用于生长金刚石膜的大面积磁旋转等离子体电弧是均匀的,能使气体混合均匀:金刚石膜在形核阶段是均匀的;金刚石膜在生长阶段是均匀的,有利于提高...
关键词:金刚石膜 均匀沉积 制备 薄膜技术 
大面积无衬底自支撑金刚石厚膜沉积被引量:7
《北京科技大学学报》2000年第3期234-237,共4页黄天斌 刘敬明 钟国仿 唐伟忠 佟玉梅 吕反修 
国家863计划资助!715-002-2030
讨论了在采用直流电弧等离子体喷射CVD工艺沉积大面积无衬底自支撑金刚石厚膜时遇到的若干技术问题.在制备过程中经常出现的膜炸裂现象,主要是由于膜和衬底材料线膨胀系数差异引起的巨大热应力,而衬底表面状态的控制、沉积过程中工...
关键词:自支撑金刚石厚膜 直流电弧等离子体喷射CVD 
基片温度对直流电弧等离子体喷射沉积金刚石膜的影响被引量:5
《北京科技大学学报》1999年第4期353-356,共4页钟国仿 申发振 唐伟忠 吕反修 
国家"863"高科技项目!863-715-Z38-03
研究直流电弧等离子体喷射化学气相沉积金刚石膜系统中,基片温度对金刚石膜生长速率和质量的影响.实验发现,金刚石膜的生长速率和结晶性随基片温度的增加而单调增加,但是金刚石膜中非金刚石碳的质量分数先是随基片温度的增加而降低...
关键词:金刚石 薄膜 基片温度 CVD 等离子体喷射 
CVD金刚石膜的断裂行为被引量:3
《金属热处理学报》1997年第3期117-122,共6页吕反修 付一良 钟国仿 唐伟忠 杨连隐 佟玉梅 
国家863高技术研究;发展计划资助项目
采用球环法研究了用大功率DCPlasmaJetCVD沉积的无衬底自支撑金刚石厚膜的断裂强度和断裂韧度,并试图探索其与原始显微组织特征(特别是晶粒度)的关系。发现CVD金刚石膜的强度和断裂韧度均远低于天然Ⅱa型宝石级...
关键词:断裂 气相沉积 金刚石 薄膜 晶粒度 裂纹 缺陷 
廉价制备大面积金刚石膜的高功率直流等离子体喷射设备的研制被引量:3
《河北省科学院学报》1997年第1期6-8,共3页臧建民 潘存海 唐才先 杜素梅 罗廷礼 张永贵 康增江 石尔平 王少岩 孙振路 郭辉 崔文秀 李国华 王志娜 吴晓波 臧怀壮 钟国仿 王豪 唐伟忠 吕反修 
本文介绍了在863新材料领域资助下最新研制成功的100kw级高功率直流等离子体喷射(DCPlasmaJet)金刚石膜沉积系统。利用该系统在氩气—氢气—甲烷气体系中进行了初步的工艺试验,经过40小时的连续运行,在Φ11...
关键词:金刚石 等离子体喷射 薄膜 制备 
稀土金属抛光金刚石膜技术被引量:20
《高技术通讯》1996年第1期1-5,共5页付一良 吕反修 王建军 钟国仿 王亮 杨让 
863计划资助
研究开发了一种快速有效地抛光化学气相沉积(CVD)金刚石厚膜的技术。该技术利用化学活性很强的稀土金属镧(La)与金刚石(碳)的化学反应,在一定的工艺条件下可对金刚石膜进行有效的抛光。抛光速率的高低与抛光温度有关,在温...
关键词:金刚石膜 稀土金属 抛光 
DC PJ-CVD等离子体炬通道中的电弧行为被引量:8
《北京科技大学学报》1994年第6期547-550,共4页李惠琪 钟国仿 吕反修 杨让 
运用电磁学和热流体学的方法研究了直流大阳极喷嘴长电弧通道等离子体炬中电弧的行为,并通过实验证明了温度梯度与电场梯度作用于流体时所产生的特殊现象;结果表明:电弧弧柱的高温效应剧烈排斥冷气流的混入,使CVD过程受到抑制。...
关键词:等离子体 等离子喷射 电弧 等离子体炬 
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