陈旺富

作品数：9被引量：38H指数：4
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供职机构：中国科学院光电技术研究所更多>>
发文主题：纳米光刻条纹双光栅光栅成像系统更多>>
发文领域：电子电信理学机械工程一般工业技术更多>>
发文期刊：《光学学报》《微细加工技术》《电子工业专用设备》《微纳电子技术》更多>>
所获基金：国家自然科学基金国家高技术研究发展计划更多>>
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基于矢量衍射理论的振幅型光子筛设计与分析被引量：6
《光学学报》2010年第2期428-432,共5页蒋文波 胡松 赵立新 杨勇 严伟 周绍林 陈旺富 
国家自然科学基金(60776029)资助课题
光子筛作为一种新兴的纳米成像器件,具有分辨力高、体积小、重量轻、易复制等优点,被广泛地应用到纳米光刻、大型天文望远镜、航空航天摄像等领域。为了追求高分辨力,须将光子筛的小孔直径做得非常小,但当光子筛的小孔直径远小于入射光...
关键词：成像系统 矢量衍射理论 振幅型光子筛 数值模拟 
微悬臂梁阵列成像系统光学特性分析
《四川大学学报（自然科学版）》2009年第4期988-992,共5页严伟 佟军民 陈大鹏 胡松 赵立新 杨勇 蒋文波 周绍林 陈旺富 
西部之光人才培养计划支持(A07K005);2008科技救灾项目
光学读出式红外成像系统是近年来提出的一种新型红外成像技术,该技术是基于探测双材料微悬臂梁吸收红外辐射后的变形量.这种红外光学成像系统由微悬臂梁阵列和光学读出设备组成,在本文中,将首先论述其系统结构和成像原理;在此基础上,通...
关键词：非制冷红外成像 光学读出 双材料微梁阵列 
位相型衍射光学元件设计的混合算法被引量：2
《光电工程》2009年第5期47-51,共5页蒋文波 胡松 赵立新 严伟 杨勇 周绍林 陈旺富 
国家自然科学基金(60706005,60776029)
针对传统的光束整形算法在设计位相型衍射光学元件时效果差的缺点,本文提出了一种适合于位相型衍射光学元件设计的新混合算法。该混合算法是将变尺度BFGS算法融入遗传算法中,其中变尺度BFGS算法主要用于局部搜索,同时将罚函数优化准则...
关键词：光束整形 位相型衍射光学元件 模拟退火算法 混合算法 
基于双光栅的纳米测量方法被引量：17
《光学学报》2009年第3期702-706,共5页周绍林 杨勇 陈旺富 严伟 马平 蒋文波 胡松 唐小萍 
国家自然科学基金(60706005;60776029);国家863计划(2006AA03z355)资助课题
针对两个物体或平面的相对位移和间隙的纳米级变化量,提出并研究了一种光栅测量方法。采用两组周期接近的微光栅重叠可以产生一组周期分布的条纹,条纹的周期相对于两光栅周期被大幅度放大,并将光栅间的位移反应在条纹的相位信息中。建...
关键词：纳米测量 光栅 干涉 叠栅条纹 
基于表面等离子体的微纳光刻技术被引量：1
《微纳电子技术》2008年第12期716-719,728,共5页杨勇 胡松 姚汉民 严伟 赵立新 周绍林 陈旺富 蒋文波 李展 
国家高科技863计划资助项目(2006AA03Z355);国家自然科学基金资助项目(60776029)
首先介绍了光刻技术的发展及其面临的挑战。随着纳米加工技术的发展,纳米结构器件必将成为未来集成电路的基础,而纳米光刻技术是纳米结构制作的基础,基于表面等离子体的纳米光刻作为一种新兴技术有望突破45nm节点从而极大提高光刻的分...
关键词：表面等离子体 纳米光刻 近场光刻 倏逝波 局域增强 
基于DMD的步进式无掩模数字曝光方法及装置被引量：6
《电子工业专用设备》2008年第10期14-19,共6页严伟 胡松 唐小萍 赵立新 杨勇 蒋文波 周绍林 陈旺富 
西部之光人才培养计划支持(编号:A07K005)
随着器件特征尺寸的继续缩小,所需掩模的成本呈直线上升态势,为降低掩模成本,无掩模光刻技术成为人们研究的热点。介绍了一种基于DMD的步进式无掩模数字曝光方法,并对用于实现该曝光方法装置的设计方案和具体实现进行了论述与分析。最...
关键词：数字微镜阵列 无掩模光刻 照明 
纳米光刻中莫尔对准模型与应用被引量：4
《光电工程》2008年第9期27-31,共5页周绍林 陈旺富 杨勇 唐小萍 胡松 马平 严伟 张幼麟 
国家自然科学基金(60706005,60776029);863计划资助项目(2006AA03z355)
在纳米光刻中,采用周期相差不大的两光栅分别作为掩模和硅片上的对准标记。当对准光路通过这两个标记光栅时受到两次调制,发生双光栅衍射及衍射光的干涉等复杂现象,最后形成有规律、且呈一定周期分布的莫尔条纹。周期相对光栅周期被大...
关键词：莫尔条纹对准 建模 纳米光刻 光栅标记 
纳米光刻双光栅对准莫尔条纹分析被引量：2
《微细加工技术》2008年第3期13-17,共5页周绍林 唐小萍 胡松 马平 陈旺富 严伟 
国家自然科学基金资助项目(60706005;60776029);863计划资助项目(2006AA03z355)
为了给实际的纳米光刻对准工作提供理论研究基础,主要分析推导了莫尔条纹复振幅以及光强的空间分布规律。在理论分析的基础上通过仿真,定量地确定了莫尔条纹复振幅分布的近似数学模型。分析表明,当对准光路通过掩模硅片上的两个对准标...
关键词：莫尔条纹 建模 纳米光刻 双光栅调制 
纳米光刻对准方法及其原理被引量：2
《微纳电子技术》2008年第4期222-230,共9页周绍林 唐小萍 胡松 马平 陈旺富 杨勇 严伟 
国家自然科学基金项目资助(60706005);863计划资助项目(2006AA03z355)
对准技术对光刻分辨力的提高有着重要作用。45nm节点以下的光刻技术如纳米压印等,对相应的对准技术提出了更高的要求。对光刻技术发展以来主要用于接近接触式和纳米压印光刻的对准技术做总结分类,为高精度的纳米级光刻对准技术提供理论...
关键词：纳米光刻 对准技术 掩模与硅片 标记 对准精度 
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