蒋文波

作品数：10被引量：44H指数：4
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供职机构：中国科学院光电技术研究所更多>>
发文主题：成像系统位相型光刻纳米光刻无掩模光刻更多>>
发文领域：电子电信理学机械工程一般工业技术更多>>
发文期刊：《光学学报》《微细加工技术》《电子工业专用设备》《微纳电子技术》更多>>
所获基金：国家自然科学基金国家高技术研究发展计划更多>>
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基于矢量衍射理论的振幅型光子筛设计与分析被引量：6
《光学学报》2010年第2期428-432,共5页蒋文波 胡松 赵立新 杨勇 严伟 周绍林 陈旺富 
国家自然科学基金(60776029)资助课题
光子筛作为一种新兴的纳米成像器件,具有分辨力高、体积小、重量轻、易复制等优点,被广泛地应用到纳米光刻、大型天文望远镜、航空航天摄像等领域。为了追求高分辨力,须将光子筛的小孔直径做得非常小,但当光子筛的小孔直径远小于入射光...
关键词：成像系统 矢量衍射理论 振幅型光子筛 数值模拟 
微悬臂梁阵列成像系统光学特性分析
《四川大学学报（自然科学版）》2009年第4期988-992,共5页严伟 佟军民 陈大鹏 胡松 赵立新 杨勇 蒋文波 周绍林 陈旺富 
西部之光人才培养计划支持(A07K005);2008科技救灾项目
光学读出式红外成像系统是近年来提出的一种新型红外成像技术,该技术是基于探测双材料微悬臂梁吸收红外辐射后的变形量.这种红外光学成像系统由微悬臂梁阵列和光学读出设备组成,在本文中,将首先论述其系统结构和成像原理;在此基础上,通...
关键词：非制冷红外成像 光学读出 双材料微梁阵列 
位相型衍射光学元件设计的混合算法被引量：2
《光电工程》2009年第5期47-51,共5页蒋文波 胡松 赵立新 严伟 杨勇 周绍林 陈旺富 
国家自然科学基金(60706005,60776029)
针对传统的光束整形算法在设计位相型衍射光学元件时效果差的缺点,本文提出了一种适合于位相型衍射光学元件设计的新混合算法。该混合算法是将变尺度BFGS算法融入遗传算法中,其中变尺度BFGS算法主要用于局部搜索,同时将罚函数优化准则...
关键词：光束整形 位相型衍射光学元件 模拟退火算法 混合算法 
电子束曝光系统中精密工件台的测量系统被引量：2
《微纳电子技术》2009年第4期244-249,共6页严伟 胡松 杨勇 周绍林 蒋文波 李艳丽 乔俊仙 
介绍了电子束曝光技术的原理。根据精密工件台对测量系统的需要,设计了三轴工件台测量系统布局方式,并简单介绍了激光干涉测量系统所需元器件数量的计算方法。重点讨论了双频激光干涉测量原理、双频光束与运动方向敏感性的关系以及读出...
关键词：电子束曝光机 激光干涉仪 精密工件台 光刻 方向敏感性 
基于双光栅的纳米测量方法被引量：17
《光学学报》2009年第3期702-706,共5页周绍林 杨勇 陈旺富 严伟 马平 蒋文波 胡松 唐小萍 
国家自然科学基金(60706005;60776029);国家863计划(2006AA03z355)资助课题
针对两个物体或平面的相对位移和间隙的纳米级变化量,提出并研究了一种光栅测量方法。采用两组周期接近的微光栅重叠可以产生一组周期分布的条纹,条纹的周期相对于两光栅周期被大幅度放大,并将光栅间的位移反应在条纹的相位信息中。建...
关键词：纳米测量 光栅 干涉 叠栅条纹 
基于表面等离子体的微纳光刻技术被引量：1
《微纳电子技术》2008年第12期716-719,728,共5页杨勇 胡松 姚汉民 严伟 赵立新 周绍林 陈旺富 蒋文波 李展 
国家高科技863计划资助项目(2006AA03Z355);国家自然科学基金资助项目(60776029)
首先介绍了光刻技术的发展及其面临的挑战。随着纳米加工技术的发展,纳米结构器件必将成为未来集成电路的基础,而纳米光刻技术是纳米结构制作的基础,基于表面等离子体的纳米光刻作为一种新兴技术有望突破45nm节点从而极大提高光刻的分...
关键词：表面等离子体 纳米光刻 近场光刻 倏逝波 局域增强 
基于DMD的步进式无掩模数字曝光方法及装置被引量：6
《电子工业专用设备》2008年第10期14-19,共6页严伟 胡松 唐小萍 赵立新 杨勇 蒋文波 周绍林 陈旺富 
西部之光人才培养计划支持(编号:A07K005)
随着器件特征尺寸的继续缩小,所需掩模的成本呈直线上升态势,为降低掩模成本,无掩模光刻技术成为人们研究的热点。介绍了一种基于DMD的步进式无掩模数字曝光方法,并对用于实现该曝光方法装置的设计方案和具体实现进行了论述与分析。最...
关键词：数字微镜阵列 无掩模光刻 照明 
无掩模光刻技术研究被引量：3
《微细加工技术》2008年第4期1-3,64,共4页蒋文波 胡松 
国家自然科基金资助项目(60706005;60776029);863计划资助项目(2006AA03Z355)
介绍了无掩模光刻技术的现状和存在的问题,并对几种常见的无掩模光刻技术进行了详细的对比分析。研究表明,扫描电子束光刻具有极高的分辨率,但是生产效率较低;波带片阵列光刻技术已经在理论和实验上取得了广泛的成果,在保持无掩模光刻...
关键词：无掩模光刻 扫描电子束光刻 波带片阵列光刻 掩模版 
传统光学光刻的极限及下一代光刻技术被引量：7
《微纳电子技术》2008年第6期361-365,369,共6页蒋文波 胡松 
国家自然科学基金资助项目(60706005,60776029);863计划资助项目(2006AA03Z355)
分析了传统光学投影光刻分辨力的物理极限,介绍了国内外各大器件和设备厂商、科研单位等为了突破这个物理极限而做出的努力;从原理、发展状况及优缺点等几个方面对比分析了下一代光刻技术,最后对未来几十年的主流光刻技术作出了展望。...
关键词：传统光学投影光刻 分辨力 物理极限 下一代光刻 主流技术 
适合于两个正交方向的光学层析重建算法被引量：1
《光电工程》2008年第6期74-78,共5页蒋文波 李辉 高益庆 胡松 
针对常见光学层析重建算法在少投影情况下重建多峰非对称待测场效果差的缺点,本文根据最大熵原理提出了一种适合于两个正交方向的光学层析重建算法。该算法只需要两个正交方向的投影数据就能够获得较好的重建效果。与此同时,由于该算法...
关键词：光学层析 重建算法 最大熵 正交方向 多峰非对称 
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