边征

作品数：2被引量：11H指数：1
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供职机构：河北工业大学更多>>
发文主题：化学机械抛光表面形貌腐蚀速率多晶硅太阳电池多晶硅片更多>>
发文领域：电子电信电气工程金属学及工艺更多>>
发文期刊：《半导体技术》《微纳电子技术》更多>>
所获基金：河北省教育厅科学技术研究计划国家自然科学基金更多>>
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W-Mo合金CMP工艺参数的影响与优化研究
《半导体技术》2010年第2期146-149,共4页边征 王胜利 刘玉岭 肖文明 
国家自然科学基金资助项目(10676008);河北省教育厅科学研究计划项目(2007429)
简述了金属化学机械抛光的机理。将半导体制造工艺中的化学机械抛光技术拓展并应用到W-Mo合金表面加工中,在实现W-Mo合金材料表面高平坦度、低粗糙度的前提下,提高W-Mo合金去除速率。针对W-Mo合金的性质,选用碱性抛光液,并采用田口方法...
关键词：W-Mo合金 化学机械抛光 田口方法 去除速率 
多晶Si太阳电池表面酸腐蚀制绒的研究被引量：11
《微纳电子技术》2009年第10期627-631,共5页肖文明 檀柏梅 刘玉岭 牛新环 边征 
研究了采用HF和HNO3非择优腐蚀多晶硅表面制备绒面的机理。通过实验分析了酸混合液的体积浓度配比、添加剂、温度和时间等因素对腐蚀速率和腐蚀后表面形貌的影响;总结出了多晶Si的酸腐蚀规律,得到了制备理想绒面的酸混合液体积配比(V(HF...
关键词：多晶硅太阳电池 酸腐蚀 表面形貌 腐蚀速率 多晶硅片制绒 
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