邱德润

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供职机构：合肥工业大学电子科学与应用物理学院更多>>
发文主题：掺硼I3氧化钛AL氮更多>>
发文领域：电子电信理学一般工业技术电气工程更多>>
发文期刊：《材料科学与工艺》《合肥工业大学学报（自然科学版）》更多>>
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氮、氧化钛膜在表面工程上的应用
《合肥工业大学学报（自然科学版）》1995年第3期49-53,共5页邱德润 
本文讨论了氮化铁、氧化钛薄膜在表面工程上的应用，包括金属零部件的表面钝化，在摩擦学、装饰、消毒杀菌和热反射玻璃等方面的应用．
关键词：表面工程 氮化钛 氧化钛 半导体 薄膜 
AlN-Si_3N_4膜
《真空科学与技术》1994年第6期449-452,共4页孙金坛 邱德润 
用直流反应溅射沉积AlN－Si3N4膜。通过红外吸收光谱和X射线衍射来验证薄膜的结构。通过各种测量，给出了吸收系数、电阻率、应力、硬度和结合力。实验表明，AlN－Si3N4膜具有良好的光、电和机械特性。
关键词：化学气相沉积 直流反应溅射 AlN-Si3N4膜 
掺硼对非晶碳化硅膜的影响
《材料科学与工艺》1994年第1期28-32,共5页孙金坛 邱德润 
试验观测了掺硼对氢化非晶碳化硅膜生长速率、膜的组分、光学带隙、电导率、硬度和结合力的影响．结果证明，用薄离子作分解（ＳｉＨ４和ＣＨ４）混合气体制备的α－Ｓｉ１－ｘ：ＣＸ：Ｈ膜能有效的掺杂．硼掺杂可改变光学带隙、电导率...
关键词：掺硼 硬度 光学带隙 非晶碳化硅膜 
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