刘丽娟

作品数：2被引量：3H指数：1
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供职机构：汕头大学更多>>
发文主题：多晶硅薄膜气源SCLC多晶硅晶化率更多>>
发文领域：理学电子电信更多>>
发文期刊：《材料研究与应用》《功能材料》更多>>
所获基金：国家重点基础研究发展计划更多>>
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SiCl_4/H_2为气源低温沉积多晶硅薄膜光电特性的研究被引量：1
《材料研究与应用》2008年第4期437-440,共4页刘丽娟 罗以琳 林璇英 
国家重点基础研究发展规划项目资助的课题(G2000028208)
采用PECVD技术,通过改变射频功率制备了晶化率不同的多晶硅薄膜.对多晶硅材料光照稳定性的研究表明,晶化率较低的多晶硅稳定性好于普通非晶硅材料,但仍然存在着光衰减;晶化率较高的多晶硅材料显示出稳恒光电导效应,不存在光衰退现象;光...
关键词：多晶硅薄膜 持续性光电导 晶化率 
SiCl_4/H_2为气源低温沉积多晶硅薄膜低温电学特性的研究被引量：2
《功能材料》2007年第6期876-878,共3页刘丽娟 罗以琳 黄锐 林璇英 
国家重点基础研究发展计划(973计划)资助项目(G2000028208)
对用SiCl4／H2为源气体、采用等离子体增强化学气相沉积（PECVD）技术制备的多晶硅薄膜进行了低温电学特性的研究。实验结果表明，多晶硅薄膜的暗电导强烈依赖于温度，在300～90K的温度范围内呈现不同的导电特性。对多晶硅薄膜，其导电...
关键词：多晶硅薄膜 电导率 低温 晶化率 
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