王世才

作品数：9被引量：4H指数：1
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供职机构：中国科学院长春应用化学研究所更多>>
发文主题：等离子体等离子体聚合有机硅化合物聚四氟乙烯聚合物膜更多>>
发文领域：理学化学工程机械工程更多>>
发文期刊：《应用化学》《质谱学报》《波谱学杂志》《辐射研究与辐射工艺学报》更多>>
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二甲基乙氧基乙烯基硅烷等离子体聚合物的的GC/MS研究
《质谱学报》1992年第4期69-72,共4页周和平 季怡萍 周茂堂 王世才 陈捷 
本文应用色谱—质谱(GS/MS)及裂解色谱质谱(Py/GC/MS)研究了二甲基乙氧基乙烯基硅烷(VDMES)等离子体聚合的气体冷凝物及聚合物膜。鉴别出多种化合物,并推导了等离子体聚合的反应历程,进而得到了气相反应与表面反应的实验依据。
关键词：VDMES 聚合物 等离子体 色谱-质谱 
在辉光放电中γ-氨丙基三乙氧基硅烷的聚合及其聚合物的结构和性能
《辐射研究与辐射工艺学报》1992年第2期87-91,共5页王世才 周茂堂 陈捷 郭作军 
在外部电容耦合装置中进行了γ-氨丙基三乙氧基硅烷(APTEOS)的聚合,研究了系统的压力、放电功率、基片距离和等离子气体对聚合膜淀积速率以及对聚合物的结构与性能的影响。应用元素分析、红外光谱、X射线衍射研究了聚合物的结构,并测定...
关键词：等离子体 聚合 表面能 APTEOS 薄膜 
二甲基乙烯基乙氧基硅烷等离子体聚合
《辐射研究与辐射工艺学报》1991年第4期243-245,242,共4页周和平 周茂堂 王世才 陈捷 
在外部电极电容耦合式辉光放电装置中进行了二甲基乙烯基乙氧基硅烷(VDMES)的等离子体聚合,考察了压力、功率以及基片距离对聚合速率的影响。用红外光谱和X射线光电子能谱(XPS)等方法研究了聚合物的结构,并研究了聚合物的热稳定性及表...
关键词：VDMES 有机硅聚合物 等离子体聚合 
取代基对有机硅化合物等离子体聚合规律的影响
《高分子材料科学与工程》1991年第5期23-27,共5页周茂堂 王世才 颜文革 陈捷 
国家自然科学基金
在外部电容耦合的辉光放电装置中进行了三乙氧基乙基硅烷、三乙氧基乙烯基硅烷和三甲基乙烯基硅烷的聚合。研究了体系压力、放电功率、等离子气体(N_2、Ar)及基片距离对淀积速率的影响,重点讨论了取代基的影响。并用元素分析、红外光谱...
关键词：取代基 等离子体 含硅高聚合物 
辉光放电中处理聚四氟乙烯表面——Ⅱ.ESR研究PTFE膜自由基被引量：1
《波谱学杂志》1990年第4期427-432,共6页周茂堂 刘桂珍 詹瑞云 王世才 陈捷 
在外部电极电容耦合式反应装置中,对聚四氟乙烯(PTFE)膜进行了辉光放电处理。通过电子自旋共振(ESR)谱研究了PTFE在处理过程中所产生的自由基,着重讨论了温度对ESR谱的影响。最后,以DPPH为内标,测定了处理后PTFE膜的自由基浓度,并考察...
关键词：辉光 放电 聚四氟乙烯 自由基 ESR 
有机硅化物等离子体聚合膜湿敏元件的制备被引量：1
《传感器技术》1990年第6期35-38,共4页王世才 周茂堂 陈捷 
阐述制备底片的工艺过程,研究三甲硅基二甲胺和r一氨丙基三乙氧基的等离子体聚合膜的季胺化,用IR分析湿敏材料的结构,测定了材料湿敏电阻的特性、滞后、表面能和响应时间。膜与底片粘接性好、耐较高温度和对水汽选择性很强等特点。
关键词：湿敏元件 聚合膜 有机硅化合物 
辉光放电处理聚四氟乙烯——Ⅲ.PTFE表面结构的XPS表征
《应用化学》1990年第6期82-84,共3页周茂堂 王世才 陈捷 
Yasuda等在用XPS研究离子体处理后的PTFE表面结构时,得到一个包络的C1s峰。本文对此进行探讨。 PTFE膜先在蒸馏水中浸泡1小时,再用热异丙醇洗涤5分钟。
关键词：聚四氟乙烯 等离子体处理 表面结构 
乙烯基三甲基硅烷等离子体聚合物膜的结构与性能被引量：2
《高分子学报》1990年第1期36-44,共9页颜文革 陈捷 卢丽珍 王世才 
国家自然科学基金
采用外部电极电容耦合高频等离子体装置对乙烯基三甲基硅烷(VTMS)进行等离子体聚合。用IR、XPS、PGC/MS、X-ray、ESR和元素分析等方法对聚合物结构进行表征,并推断聚合反应历程。应用TG研究聚合物的热性能。通过X-ray证实聚合物为非晶...
关键词：有机硅化合物 等离子体聚合 VTMS 
六甲基二硅氧烷的等离子体聚合及聚合物的结构与性能
《合成树脂及塑料》1989年第4期15-20,24,共7页王世才 潘振远 陈捷 卢丽珍 
在外部电容耦合的辉光放电中进行了六甲基二硅氧烷的聚合。考察了压力、功率以及等离子气体对聚合速率、产物结构和性能的影响。应用IR、XPS、PGC/MS和元素分析等对聚合物的结构进行表征,用TR、热失重、接触角和密度等方法,分别测定了...
关键词：六甲基 二硅氧烷 等离子体 聚合物 
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