张杨

作品数:4被引量:11H指数:2
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供职机构:中国科学院光电技术研究所更多>>
发文主题:摆幅轴式去除函数平面研磨射流更多>>
发文领域:自动化与计算机技术轻工技术与工程机械工程金属学及工艺更多>>
发文期刊:《强激光与粒子束》《光学技术》更多>>
所获基金:国家科技重大专项更多>>
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浴法抛光中抛光粉粒径对去除效果影响的试验研究被引量:1
《光学技术》2014年第6期486-491,共6页张杨 徐清兰 陈梅 张蓉竹 
为了分析抛光粉粒径对材料去除效果的影响,选用不同的平均粒径以及不同比例混合氧化铈抛光粉分别对K9玻璃进行了抛光试验。对抛光后的工件表面粗糙度及去除量进行了定量研究。结果表明,在试验条件相同的情况下,不同平均粒径的抛光粉,粒...
关键词:浴法抛光 抛光粉粒径 抛光粉均匀性 表面粗糙度 去除速率 
射流抛光中的流场特性研究被引量:7
《光学技术》2014年第4期376-380,共5页罗银川 李秀龙 张杨 张蓉竹 杨李茗 
四川省教育厅创新团队资助项目(13TD0048)
为了给出射流抛光系统的优化设计参数,从理论上分析了冲击射流流场的结构特点,建立了工件壁面上的速度、压强与冲击角度、射流出口速度以及冲击距离的数学关系。就不同参数对射流流场分布的影响进行了定量计算,结果表明,工件壁面上的压...
关键词:冲击射流 流场特性 壁面压强 
塑性加工条件下射流颗粒冲击去除效应被引量:1
《强激光与粒子束》2014年第5期36-41,共6页李秀龙 万勇建 徐清兰 张杨 罗银川 张蓉竹 
国家重大专项应用基础项目(GFZX0205010503.8)
针对在微观上存在尖锐突起、凹坑和划痕等缺陷的光学元件,提出用低质量分数磨料水射流冲击的方式对其进行处理。从弹性接触出发,对射流中粒子与元件发生塑性接触的临界速度进行了推导,并引入了塑性转入脆性加要的临界速度,从而对射流的...
关键词:光学加工 磨料水射流 塑性去除 冲击去除 
双轴式研磨抛光中抛光盘相对位置对去除量的影响研究被引量:2
《光学技术》2013年第5期408-412,共5页张杨 李秀龙 徐清兰 张蓉竹 
国家重大专项应用基础项目(GFZX020010803.22)
为了了解在抛光过程中抛光盘位置对光学元件面形的影响,对一种双轴式平面研磨抛光运动过程进行了分析。从Preston方程出发,推导了去除函数的表达式,研究了抛光盘的摆幅及偏心距离对元件的去除量分布的影响。通过定量计算得知,在加工转...
关键词:平面研磨 去除函数 抛光盘摆幅 偏心距 去除量 
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