徐清兰

作品数：8被引量：43H指数：2
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供职机构：中国科学院光电技术研究所更多>>
发文主题：光学表面光学平面镜面抛光去除函数更多>>
发文领域：机械工程化学工程金属学及工艺一般工业技术更多>>
发文期刊：《强激光与粒子束》《光学学报》《应用光学》《光学技术》更多>>
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浴法抛光中抛光粉粒径对去除效果影响的试验研究被引量：1
《光学技术》2014年第6期486-491,共6页张杨 徐清兰 陈梅 张蓉竹 
为了分析抛光粉粒径对材料去除效果的影响,选用不同的平均粒径以及不同比例混合氧化铈抛光粉分别对K9玻璃进行了抛光试验。对抛光后的工件表面粗糙度及去除量进行了定量研究。结果表明,在试验条件相同的情况下,不同平均粒径的抛光粉,粒...
关键词：浴法抛光 抛光粉粒径 抛光粉均匀性 表面粗糙度 去除速率 
塑性加工条件下射流颗粒冲击去除效应被引量：1
《强激光与粒子束》2014年第5期36-41,共6页李秀龙 万勇建 徐清兰 张杨 罗银川 张蓉竹 
国家重大专项应用基础项目(GFZX0205010503.8)
针对在微观上存在尖锐突起、凹坑和划痕等缺陷的光学元件,提出用低质量分数磨料水射流冲击的方式对其进行处理。从弹性接触出发,对射流中粒子与元件发生塑性接触的临界速度进行了推导,并引入了塑性转入脆性加要的临界速度,从而对射流的...
关键词：光学加工 磨料水射流 塑性去除 冲击去除 
双轴式研磨抛光中抛光盘相对位置对去除量的影响研究被引量：2
《光学技术》2013年第5期408-412,共5页张杨 李秀龙 徐清兰 张蓉竹 
国家重大专项应用基础项目(GFZX020010803.22)
为了了解在抛光过程中抛光盘位置对光学元件面形的影响,对一种双轴式平面研磨抛光运动过程进行了分析。从Preston方程出发,推导了去除函数的表达式,研究了抛光盘的摆幅及偏心距离对元件的去除量分布的影响。通过定量计算得知,在加工转...
关键词：平面研磨 去除函数 抛光盘摆幅 偏心距 去除量 
消除轻质反射镜“压印效应”的技术研究被引量：2
《光学学报》2011年第7期222-226,共5页钟显云 徐清兰 范斌 
随着航天技术的发展,轻质反射镜的研究正朝着径厚比更大、轻量化更高的趋势发展。然而,当轻质镜面形精度峰谷(PV)值低于0.1λ时,镜面面形会明显产生波浪形的"压印效应"。重力及磨头压力所引入的"压印效应"已成为轻质结构反射镜高精度加...
关键词：光学制造 压印效应 有限元仿真 浸入式 
轻质碳化硅平面反射镜超光滑表面加工被引量：31
《光电工程》2004年第9期22-25,共4页徐清兰 伍凡 吴时彬 王家金 
介绍了对角线为110mm六边形反应烧结轻质碳化硅平面反射镜超光滑光学加工工艺流程。详细阐述了各个工序所使用的磨具、磨料和抛光机床工艺参数,对实际加工的轻质碳化硅平面反射镜超光滑表面进行检测,检测结果为:面形精度均方根值(RMS)为...
关键词：轻质平面反射镜 光学加工 粗糙度 抛光 面形精度 
单晶硅镜面超光滑表面工艺技术研究被引量：6
《光电工程》2003年第5期69-72,共4页徐清兰 伍凡 吴时彬 王家金 雷柏平 兰秀清 张晶 
用古典的沥青盘抛光技术,通过对超光滑抛光时所使用磨料的选取、沥青抛光盘的软硬和 厚度的合理应用、抛光温度的控制等工艺参数的优化,以f220mm内的单晶硅进行了超光滑表面抛光工艺试验。试验结果,单晶硅表面粗糙度RMS值达0.37nm,平面...
关键词：抛光 磨料 单晶硅 沥青盘 
数字式小型激光球面干涉仪的研制
《应用光学》2000年第C00期14-16,共3页杨力 徐清兰 伍凡 郑耀 
本文讨论数字式小型激光球面干涉仪设计研制目的、意义以及干涉仪的光学系统及仪器结构设计原则和设计精度指标分配。
关键词：小型激光球面干涉仪 数字式 相位测量 
直角棱镜刚性上盘高效生产技术研究
《光学技术》1998年第3期88-90,共3页徐清兰 杨力 冯萍 
本文报告直棱镜刚性成组上盘大批量高效生产工艺技术。讨论了棱镜粗磨铣磨成型，精磨磨具的参数选择以及丸片精磨镜盘的面形稳定性分析。给出了聚氨酯平盘抛光工艺参数，报告了这些研究试验结果在生产线上的应用效果。
关键词：棱镜 刚性上盘 金刚石丸片精磨 高效抛光 
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