李亚光

作品数：2被引量：11H指数：2
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供职机构：中国电子科技集团公司第四十六研究所更多>>
发文主题：AL染色液PLPCVDTEOS更多>>
发文领域：电子电信更多>>
发文期刊：《电子工业专用设备》《半导体技术》更多>>
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LPCVD制备二氧化硅薄膜工艺研究被引量：4
《电子工业专用设备》2011年第6期24-26,56,共4页王俭峰 佟丽英 李亚光 李秀强 
采用TEOS源LPCVD法制备了SiO2薄膜,采用膜厚仪对薄膜的厚度进行测试。通过不同条件下SiO2薄膜的厚度变化,讨论了TEOS源温度、反应压力及反应温度等工艺条件对淀积速率和均匀性的影响。结果表明,在40℃,50 Pa左右,淀积速率随TEOS源温度...
关键词：TEOS源 LPCVD 淀积速率 均匀性 
化学染色法测量B,Al及P扩散结深被引量：7
《半导体技术》2009年第12期1213-1215,共3页佟丽英 赵权 史继祥 王聪 李亚光 
采取化学染色法对B,Al和P杂质扩散形成的结深进行检测,通过实验不同浓度染色液的腐蚀特性,选择易于控制和重复性好的染色腐蚀液。同时采用扩展电阻法对同一个样品的结深进行测试,以扩展电阻法所得结果为标准,与染色法的测量结果进行对比...
关键词：扩散结深 染色液 扩展电阻探针法 
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