李玉琼

作品数：4被引量：18H指数：3
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供职机构：北京理工大学光电学院更多>>
发文主题：离子辅助沉积SIO缓冲层薄膜应力薄膜光学更多>>
发文领域：一般工业技术理学更多>>
发文期刊：《北京理工大学学报》《光学学报》《稀有金属材料与工程》更多>>
所获基金：国家部委预研基金北京市自然科学基金更多>>
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无机缓冲层对柔性In_2O_3:SnO_2薄膜光电及耐弯曲性能影响的研究被引量：3
《光学学报》2010年第4期1205-1210,共6页李玉琼 喻志农 冷健 薛唯 夏樊 丁曌 
国家部委预研项目(51302060203)资助课题
在室温条件下采用离子辅助沉积技术在柔性衬底上依次制备无机缓冲层及In_2O_3:SnO_2(ITO)薄膜,重点研究了不同无机缓冲层对柔性ITO薄膜光电及耐弯曲性能的影响。研究发现SiO_2,TiO_2,Ta_2O_5和Al_2O_3无机缓冲层对ITO薄膜的方阻、光学...
关键词：柔性ITO薄膜 无机缓冲层 离子辅助沉积 光电特性 耐弯曲性能 
基片材料与沉积参数对薄膜应力的影响被引量：12
《光学学报》2010年第2期602-608,共7页李玉琼 喻志农 王华清 卢维强 薛唯 丁瞾 
国家部委预研项目(51302060203)资助课题
采用哈特曼-夏克传感器的薄膜应力在线测量仪测量了利用离子辅助电子束蒸发的Si O2,Ti O2,Ta2O5,Al2O3与ITO薄膜在不同厚度时的应力值,并深入研究了基片材料与沉积参数对Si O2,Ti O2薄膜应力的影响。研究结果表明,在成膜的初始阶段,薄...
关键词：薄膜光学 薄膜应力 哈特曼-夏克传感器 基片材料 沉积参数 离子辅助沉积 
SiO_2和TiO_2缓冲层对柔性ITO薄膜弯曲特性的影响被引量：1
《北京理工大学学报》2009年第8期699-703,共5页喻志农 夏樊 李玉琼 薛唯 赵志伟 
国家部委预研项目(51302060203)
讨论了柔性ITO薄膜在弯曲时导电能力失效的机理及影响因素.考察了SiO2和TiO2作为无机缓冲层的加入对于柔性ITO薄膜弯曲特性的影响.实验结果及分析表明,材料间的失配系数,结合力以及薄膜缺陷是影响ITO薄膜弯曲特性的主要因素.SiO2或TiO2...
关键词：柔性ITO 缓冲层 弯曲特性 
SiO_2缓冲层对柔性ITO薄膜特性的影响被引量：3
《稀有金属材料与工程》2009年第3期443-446,共4页喻志农 相龙锋 李玉琼 薛唯 
北京市自然科学基金(3063022);北京理工大学优秀青年教师资助计划(059852)
利用离子辅助蒸发技术在PET塑料衬底上制备柔性ITO薄膜,重点分析了柔性ITO薄膜在增加SiO2缓冲层前后的性能变化。采用X射线衍射、紫外-可见分光光度计、四探针电阻测量仪、NT100光学轮廓仪等测试手段对薄膜样品进行表征。实验结果表明:...
关键词：离子辅助蒸发技术 ITO薄膜 二氧化硅缓冲层 
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