何峰

作品数：3被引量：14H指数：2
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供职机构：电子科技大学光电信息学院电子薄膜与集成器件国家重点实验室更多>>
发文主题：NIKON光刻机亚胺化光敏聚酰亚胺牺牲层技术更多>>
发文领域：电子电信更多>>
发文期刊：《电子工业专用设备》《微处理机》更多>>
所获基金：电子薄膜与集成器件国家重点实验室基础研究开放创新基金更多>>
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光敏聚酰亚胺牺牲层工艺研究被引量：7
《微处理机》2010年第5期10-12,16,共4页彭自求 王军 袁凯 何峰 蒋亚东 
电子薄膜与集成器件国家重点实验室开放基金(KFJJ200805)
微机电系统(Micro Electromechanical System,MEMS)作为微电子技术应用的新突破,促进了现代信息技术的发展。牺牲层技术是MEMS应用的关键。介绍了光敏性聚酰亚胺作为牺牲层材料的优势,研究了工艺中光敏聚酰亚胺的厚度控制、亚胺化过程...
关键词：牺牲层技术 光敏聚酰亚胺 亚胺化 牺牲层释放 
Nikon步进重复光刻机的对位机制被引量：2
《微处理机》2009年第6期1-3,7,共4页陈德鹅 吴志明 王军 袁凯 何峰 蒋亚东 
具体探讨了Nikon步进重复光刻机掩膜版和硅片的对位过程及硅片对位结果的检测方法。分析了硅片对位过程中产生的对偏现象,用EGA算法对对偏进行计算和补偿,同时探讨了对偏产生的原因及对应的处理方法,给掩膜—硅片的对位过程中出现的问...
关键词：光刻 硅片对位 对偏 算法 
Nikon光刻机对准系统概述及模型分析被引量：7
《电子工业专用设备》2009年第4期8-12,18,共6页何峰 吴志明 王军 袁凯 蒋亚东 李正贤 
对准系统是光刻机中最精密复杂的部分,掌握对准原理是设计和使用光刻机的关键之一。阐述Nikon步进投影光刻机(Stepper)的对准机制,详细介绍目前应用于Nikon步进光刻机硅片对准的三种对准方式:LSA、FIA、LIA,比较它们的优缺点。并结合数...
关键词：对准系统 步进光刻机 对准方式 对准模型 
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