江苏省高技术研究计划项目(BG2004020)

作品数:9被引量:28H指数:4
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相关作者:吴建宏刘全陈刚李朝明方玲玲更多>>
相关机构:苏州大学南京信息职业技术学院中国科学院上海光学精密机械研究所更多>>
相关期刊:《光学学报》《中国激光》《激光杂志》《光电子.激光》更多>>
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线性啁啾相位掩模的研制被引量:5
《中国激光》2009年第3期677-682,共6页刘全 吴建宏 杨卫鹏 方玲玲 
江苏省高技术研究计划(BG2004020)资助项目
利用严格耦合波理论分析了线性啁啾相位掩模的衍射特性,得到只有当相位掩模的占宽比在0.37~0.50之间,槽形深度在242~270 nm之间时,才能保证零级衍射效率小于2%,同时正负一级的衍射效率大于35%。在此基础上,利用全息-离子束刻蚀和反应...
关键词:衍射与光栅 线性啁啾相位掩模 严格耦合波理论 离子束刻蚀 衍射效率 
光刻胶全息光栅显影监测的模拟与实验被引量:2
《光学技术》2009年第1期41-44,共4页陈刚 吴建宏 刘全 陈新荣 李朝明 
江苏省高技术研究计划资助项目(BG2004020);江苏省高校自然科学重大基础研究资助项目(07KJA51002)
为了控制光刻胶全息光栅显影过程,建立了槽形演化和衍射效率模型,模拟了槽形演化和衍射效率曲线,分析了显影监测曲线的特征和规律。并将模拟槽形和实验槽形、模拟监测曲线和实验监测曲线进行对比,均很好地吻合。结果表明衍射效率的监测...
关键词:信息光学 全息光栅 槽形模拟 显影监测 
全息光栅光刻胶掩模槽形演化及其规律研究被引量:6
《光学技术》2008年第1期133-135,140,共4页陈刚 吴建宏 刘全 
江苏省高技术研究计划资助项目(BG2004020)
为了控制全息光栅光刻胶掩模槽形,运用曝光模型和显影模型模拟了掩模的槽形形成过程和变化规律。实验对比了不同曝光量,不同显影浓度,不同空频条件下的掩模槽形,特别是占宽比(光栅齿宽度与光栅周期的比)的情况。实验结果表明,实际槽形...
关键词:衍射光栅 全息光栅掩模 槽形模拟 占宽比控制 
镀铬对光刻胶全息光栅掩模槽形的影响
《光学仪器》2007年第6期81-84,共4页陈刚 吴建宏 刘全 
江苏省高技术研究计划资助项目(BG2004020)
为了研究镀铬对光刻胶光栅掩模槽形的影响,分析了铬膜反射引起的沿垂直光刻胶表面的驻波效应。分析表明驻波效应的对比度为0.28,不能忽略。将镀铬基底与普通的玻璃基底的掩模槽形对比,发现明显的不同。槽形模拟表明这种不同是由于驻波...
关键词:衍射光栅 全息光栅掩模 铬膜 槽形 
用平凸透镜制作大口径光栅的像差分析被引量:4
《激光杂志》2007年第6期48-50,共3页王诗华 吴建宏 李朝明 陈刚 
本文受江苏省高技术研究基金(BG2004020);国家高新技术研究发展计划(2005AA849023)资助。
分析使用两个对称的单平凸透镜光路制作光栅并用MATLAB编写光线追迹程序分析了所制作的光栅的衍射波像差的特点,经计算得出在较小焦比D/F情况下其衍射波像差仅与两支光路点光源的调节偏差之差有关与单独的各个偏差无关;初级像差中球差...
关键词:平凸透镜 光栅 像差 
线性啁啾相位掩模的设计被引量:1
《光电工程》2006年第11期88-92,共5页方玲玲 吴建宏 刘全 陈刚 
江苏省高技术研究计划(BG2004020)
啁啾相位掩模法是啁啾光纤光栅的一种非常重要的制作方法。本文研究讨论了用全息干涉方法制作线性啁啾位相掩模的设计方法,提出用两球面波干涉产生条纹密度随空间距离线性变化的干涉条纹记录啁啾位相光栅,按设定光栅端点空频和端点空频...
关键词:啁啾光纤光栅 变栅距全息光栅 线性啁啾相位掩模 
高分辨率平场全息凹面光栅的研制被引量:7
《光电子.激光》2006年第7期828-831,共4页李朝明 吴建宏 赵艳皎 唐敏学 
江苏省高技术研究基金资助项目(BG2004020)
提出一种利用ZEMAX软件设计、分析评价平场全息凹面光栅的方法。该方法不需要求解复杂的高级像差方程组,兼顾平像场和提高分辨率的效果显著。ZEMAX软件能对设计结果迅速进行评价,减少了人工运算,提高了设计结果的可信度及工作效率。...
关键词:全息 凹面光栅 线阵CCD ZEMAX软件 
脉冲压缩光栅光路调节新方法研究被引量:2
《光学学报》2006年第11期1609-1613,共5页张伟 吴建宏 朱健强 李朝明 
江苏省高技术研究计划(BG2004020);国家863计划(2004AA849023)资助课题
介绍了一种简单而实用的大口径脉冲压缩光栅光路调节方法,有效解决了普通光路调节方法中轴向调节精度不高的问题。首先由全息透镜(光栅)成像公式出发,推导出了该光路调节的基本原理。并从光栅记录系统与光栅衍射波像差的关系,结合初级...
关键词:衍射与光栅 叠栅条纹 波像差 数值模拟 
制作光纤光栅用相位掩模的衍射行为研究被引量:2
《光通信研究》2006年第3期58-60,共3页刘全 吴建宏 陈刚 方玲玲 
江苏省高技术研究计划资助项目(BG2004020);苏州大学青年教师研究基金资助项目(Q3210525)
利用严格耦合波理论对用于光纤光栅制作的相位掩模的衍射特性进行了深入的研究。研究发现,在紫外写入波长(248nm)下,为了使零级衍射效率〈5%,且±1级的衍射效率〉35%,相位掩模的刻槽深度必须控制在230.280nm。占宽比必须控制在...
关键词:相位掩模 光纤光栅 衍射效率 严格耦合波理论 
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