等离子体蚀刻

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深亚微米/纳米CMOS器件离子蚀刻新技术
《半导体技术》2005年第1期35-40,共6页成立 王振宇 武小红 范木宏 祝俊 赵倩 
江苏省高校自然科学研究基金项目(02KJB510005)
综述了制备深亚微米/纳米CMOS器件的离子蚀刻新技术:考夫曼(Kaufman)离子铣蚀刻、氟基气体多晶硅蚀刻、氯基或溴基气体硅深蚀刻、电子回旋共振(ECR)蚀刻系统和电感耦合等离子体蚀刻器(ICPE)等,并对比分析了上述蚀刻技术各自的优缺点及...
关键词：超大规模集成电路 纳米CMOS器件 离子束蚀刻 考夫曼离子源 电子回旋共振 电感耦合等离子体蚀刻器 
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