等离子体蚀刻

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通用工艺与设备
《电子科技文摘》2005年第12期41-53,共13页
05192542002年电解工业报告=Report on the Electrolytic In-dustries for the Year 2002[刊,英]/V.Srinivasan,L.Lipp//Journal d The Electrochemical Society.—2003,150(12).—K15(E)0519255垂直腔面发射激光器的氧化工艺研究[刊,...
关键词：通用工艺 电子束光刻 掩模 等离子体蚀刻 等离子体刻蚀 LITHOGRAPHY 极端紫外 压铸机 注射成型 溶胶一凝胶 
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