平坦化

作品数:272被引量:519H指数:8
导出分析报告
相关领域:电子电信更多>>
相关作者:赵超李俊峰刘玉岭杨涛王辰伟更多>>
相关机构:京东方科技集团股份有限公司中芯国际集成电路制造(上海)有限公司乐金显示有限公司三星显示有限公司更多>>
相关期刊:更多>>
相关基金:国家自然科学基金国家中长期科技发展规划重大专项河北省自然科学基金天津市自然科学基金更多>>
-

检索结果分析

结果分析中...
选择条件:
  • 作者=殷华湘x
条 记 录,以下是1-2
视图:
排序:
小尺寸器件的金属栅平坦化新技术
《真空科学与技术学报》2016年第9期1030-1033,共4页赵治国 殷华湘 朱慧珑 张永奎 张严波 秦长亮 张青竹 张月 赵超 
随着高k金属栅工程在45 nm技术节点上的成功应用,该技术已成为亚30 nm以下技术节点不可缺少的关键模块化工程。同时,如何保证高k金属栅能够在集成过程中得到有效的平坦化,保证器件正常性能也成为了金属后栅工艺的关键技术之一。本文提...
关键词:高k金属栅 反应离子刻蚀 介质再沉积 化学机械平坦化 
金属栅回刻平坦化技术被引量:1
《真空科学与技术学报》2012年第9期793-797,共5页孟令款 殷华湘 徐秋霞 陈大鹏 叶甜春 
极大规模集成电路制造技术及成套工艺(02专项)(No.2009ZX02035);国家自然科学基金项目(No.60776030);中国科学院微电子器件与集成技术重点实验室课题资金资助
随着CMOS集成电路技术节点缩减到45 nm及以下,高K金属栅(HK/MG)的后栅集成工艺已逐渐成为先进集成电路制造中的主流技术。其中金属栅(假栅)集成结构的平坦化是实现后栅集成的关键技术之一。本文通过特色开发的SOG两步等离子体回刻结合O...
关键词:金属栅 假栅 旋转涂布玻璃 等离子回刻 平坦化 
检索报告 对象比较 聚类工具 使用帮助 返回顶部