纳米压印光刻

作品数：48被引量：105H指数：6
导出分析报告
相关领域：电子电信更多>>
相关作者：张大卫田延岭贾晓辉丁玉成兰红波更多>>
相关机构：天津大学佳能株式会社中国科学院西安交通大学更多>>
相关期刊：《中国科技产业》《集成电路应用》《微纳电子技术》《功能材料与器件学报》更多>>
相关基金：国家自然科学基金国家高技术研究发展计划国家重点基础研究发展计划国家教育部博士点基金更多>>
-
在结果中检索

检索结果分析

结果分析中...
选择条件：
  • 期刊=集成电路应用x
共 条 记 录，以下是1-3
全选清除导出
参考文献引证文献引用追踪
视图：
排序：
纳米压印光刻在CMOS HDD中的快速发展
《集成电路应用》2008年第3期56-57,共2页Alexander E. Braun 
据Molecular Imprints公司的首席执行官Mark Melliar-Smith所言,纳米压印技术明年将稳步跨入硬盘制造舞台,在几年之后达到CMOS高密度存储器工艺的极限。Molecular Imprints公司是一家压印工具的开发商和制造商。
关键词：纳米压印光刻 CMOS HDD 纳米压印技术 ts公司 首席执行官 MARK 制造商 
Princeton小组加深对纳米压印的理解
《集成电路应用》2007年第5期28-28,共1页Aaron Hand 
最近．普林斯顿大学（Pdnceton University）的研究人员在Nanotechnology（（纳米技术》杂志上发表了两篇论文．介绍了他们在纳米压印光刻（NIL）领域内的重大进展．推动这项技术向着成为可行的、用于主流半导体制造的下一代光刻技术（...
关键词：纳米压印光刻 下一代光刻技术 加深 普林斯顿大学 纳米技术 半导体制造 研究人员 论文 
纳米压印跃过IDM龙门
《集成电路应用》2007年第4期34-34,共1页
虽然纳米压印光刻在最近更新的ITRS中排名有所下滑（在22和16nm节点的潜在解决方案中，无掩膜光刻排到了它的前面），但Molecular Imprints Inc．（MII）公司还是宣布了它在这项技术上所取得的最新成绩，即将一台用于下一代光刻（NGL）...
关键词：纳米压印光刻 龙门 下一代光刻 芯片制造商 INC 存储器 节点 掩膜 
全选清除导出
共1页<1>
检索报告 对象比较 聚类工具 使用帮助 返回顶部