多层布线技术

作品数：15被引量：9H指数：2
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低介电常数氟化非晶碳膜多层布线技术
《微电子技术》1998年第2期14-14,共1页
关键词：非晶碳膜 多层布线 介电常数比 层间介质 成膜技术 技术特点 氟化 二氧化 低介 布线电容 
AT&T开发的0.35μm工艺器件内部多层布线技术
《微电子技术》1995年第4期63-63,共1页黎星 
关键词：多层布线 平坦化 介质膜 内部布线 光致抗蚀剂 AT&T 开发评价 光刻装置 接触电阻 贝尔研究所 
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