多层金属化

作品数:14被引量:12H指数:2
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相关机构:中国电子科技集团公司济南市半导体元件实验所信息产业部电子第五研究所合肥工业大学更多>>
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Al/TiN/Ti多层金属化在微波器件中的应用研究
《半导体技术》1996年第5期19-22,共4页孙英华 李志国 程尧海 郭伟玲 李学信 穆德成 
在双极型微波器件3DG44、3DG86上采用了新型金属化Al/TiN/Ti系统.研究了多种热电应力下TiN的阻挡特性,结果显示采用TiN层的器件抗热电迁徙能力显著提高,加速寿命为原器件的3倍多。AES分析表明原器件失...
关键词:欧姆接触 阻挡层 电徒动 微波器件 金属化 
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