高真空

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高真空冷黑环境下大面阵黑体定标器控温应用研究
《真空》2024年第1期74-77,共4页刘海静 董德胜 王晓占 李灿伦 冯蕾 季琨 靳兆峰 
为满足某产品在高真空冷黑环境下的红外载荷辐射定标,设计采用了一种复合PID控制算法,在开展大面阵黑体多分区定标器真空试验中,较好地完成了大面阵黑体多分区交叉耦合控温的高精度指标要求。基于工程实践性强的模糊控制与传统PID相结...
关键词：模糊控制 智能PID控制 温度扰动 
半球谐振陀螺高真空维持技术
《真空》2023年第4期75-79,共5页张红波 曲天良 王鹏 
通过理论计算得到半球谐振陀螺壳体内部所需要的真空度,根据放气率实验测试数据得到壳体内部真空度随时间的变化关系,据此进行了吸气剂选型和吸气能力测试,并测量了放置吸气剂后的壳体等效放气率,测试结果表明所选用的吸气剂可以满足维...
关键词：半球谐振陀螺 空气阻尼 高真空 出气速率 吸气剂 
低温高真空环境下气体吸附材料吸气性能测试系统设计
《真空》2023年第1期42-45,共4页李晓刚 胡勇 高峰 胡湘娥 甘智华 
广东省重点领域研发计划项目资助(2021B0101300004)。
设计了利用动态法原理测试气体吸附材料吸气性能的系统,可以实现在15~500K温度范围,高真空(5.0×10-4Pa)至几个大气压压力范围内精确测量多种材料对不同气体的瞬时吸气速率、阶段气体吸附量、累积饱和吸附量等参数。研究表明该测试系统...
关键词：气体吸附材料 低温高真空 系统设计 
空间行波管专用排气工艺极高真空系统的研制被引量：4
《真空》2022年第5期50-54,共5页卢少波 姚铮 宋艳鹏 韩永超 张吉峰 唐榕 
空间行波管广泛应用于通信卫星、雷达卫星和定位导航等领域,极高真空的获得与维持是空间行波管高可靠性和长寿命的关键,因此研究极高真空烘烤排气系统具有重要意义。极高真空的获得需要在专用真空排气设备上进行,真空排气工艺是微波真...
关键词：极高真空 空间行波管 真空排气 出气速率 
CSNS反角白光中子源真空系统
《真空》2022年第3期7-11,共5页王鹏程 孙晓阳 敬罕涛 黄涛 刘佳明 刘顺明 谭彪 
国家重点研发计划(2016YFA0401601)。
在中国散裂中子源(CSNS)大科学平台中,利用高能质子加速器产生的1.6GeV高能质子轰击固体钨靶,在靶前产生的反向中子束流,经质子通道返回,并引出到中子实验区,被称为反角白光中子源(Back-n),其具有能谱宽(0~200MeV)、中子产额大(2×10^(1...
关键词：反角白光中子源(Back-n) 超高/高真空系统 运行 
基于ANSYS的MEMS离子源测试用高真空腔设计与分析被引量：1
《真空》2022年第3期16-19,共4页周缘 冉澳 吴奕恒 谢元华 刘坤 
国家级大学生创新创业训练计划资助项目(200126);中央高校基本科研业务专项资金(Nl82410001)。
设计了一种适用于MEMS离子源测试用的高真空腔体。根据目前质谱测试用高真空腔的相关研究,针对高真空获得能力、保持能力及频繁使用的简便性,综合考虑结构强度、内壁出气等因素,选用了同时满足强度与低出气率的筒型结构。基于ANSYS软件...
关键词：ANSYS 高真空腔体 出气 MEMS离子源 
超低温温区热连接方式试验研究
《真空》2022年第1期64-67,共4页罗威 李卓慧 周晓东 王晓占 孙成恺 关阳 靳兆峰 刘海静 
为验证超低温温区不同热连接方式对深冷辐射源的降温影响程度,搭建了超低温温区真空热试验系统,对三种型式的热连接件的超低温导热特性进行了试验。结果表明:40K以下高纯铜与铝呈现出极好的超低温导热特性;在结构允许的前提下,可通过增...
关键词：超低温温区 热连接 深冷辐射源 高真空 试验研究 
超高真空和高真空技术的应用被引量：5
《真空》2021年第4期98-102,共5页马义刚 李智慧 
真空技术应用领域的不断拓展促进了不同学科间的相互融合和交叉学科的诞生。超高真空和高真空技术的进步推动了半导体、航天航空、核电能源等高技术产业的发展,为人类的可持续发展提供了保障。近些年,真空腔体、泵、阀门和密封件在增材...
关键词：超高真空 增材制造 真空泵 无颗粒阀门 真空密封 
真空钎焊系统内材料出气对压升率的影响研究被引量：4
《真空》2021年第2期42-47,共6页石扬 解永强 武春晖 暴翔 王成君 王永卿 赵兴亮 
随着微电子封装向小型化、高密度化、高可靠性的方向发展,各行业对钎焊技术提出了高钎透率、高钎焊接头质量、材料具备高净化度等需求。高真空钎焊技术也随之日益普及、加速发展。该技术通过保障真空室的洁净度及焊接真空度,进而保障元...
关键词：高真空 压升率 烘烤 材料放气 真空钎焊 
第二十讲 真空离子镀膜
《真空》2020年第1期94-96,共3页张以忱 
(接2019年第6期第86页)b对电弧蒸发源的技术要求在正常镀膜气压下(5×10-1Pa),靶电流的可调范围较大(如以直径60mm圆形钛靶为例,靶电流范围35A^100A),而且在靶电流低(靶电流下限)时能稳定弧的运动;在高真空下(10-3Pa),可正常稳弧;磁场可...
关键词：可调范围 靶电流 电弧蒸发 高真空 边扩展 靶面 真空离子镀膜 
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