光学邻近效应

作品数：34被引量：53H指数：3
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相关作者：李艳秋马旭罗先刚郭永康王长涛更多>>
相关机构：ASML荷兰有限公司中国科学院微电子研究所中芯国际集成电路制造(上海)有限公司上海华力集成电路制造有限公司更多>>
相关期刊：《微电子技术》《光学学报》《微细加工技术》《中国集成电路》更多>>
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偏离最佳条件的基于模型的光学邻近效应修正
《半导体技术》2006年第9期673-675,679,共4页陆梅君 金晓亮 毛智彪 梁强 
上海浦东新区专项基金项目(PKJ2004-58)
提出了一种新型的与制程窗口紧密相关,被称为偏离最佳条件的基于模型的光学邻近效应模型,该模型包含制程参数变化的信息。该模型引导得到的修正的图形在工艺参数变化时也会表现得非常稳定,而且相对标准模型而言,缩短了建立模型的周期,...
关键词：偏离最佳 光学邻近效应 制程窗口 
光学邻近校正改善亚微米光刻图形质量被引量：5
《半导体技术》2001年第3期20-26,共7页石瑞英 郭永康 
中科院光电所做细加工光学技术国家重点实验室基金;国家自然科学基金项目编号!(69907003);教育部博士点基金资助项目
论述了近年来光学邻近校正技术的进展，讨论了各种行之有效的改善光刻图形质量的校正方法，并分析了邻近效应校正在未来光刻技术中的地位和作用。
关键词：亚微米光刻 光学邻近效应 光学邻近校正 图形质量 
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