P-SI

作品数：177被引量：223H指数：7
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p-Si上激光诱导局部沉积铂被引量：1
《应用化学》1998年第4期104-106,共3页崔启明 江志裕 郁祖湛 应质峰 
The partial deposit films on p-silicon wafers were formed from three kinds of plating solution: chloro-platinic acid, potassium tetranitroplatinate and diammine platinium dinitrate under Nd: YAG laser irradiation. The...
关键词：电镀铂 激光诱导 沉积 P-SI 硅基体 铂 
p-Si上电沉积Ni-W-P薄膜的结构与热稳定性被引量：3
《应用化学》1998年第3期35-38,共4页李爱昌 张国庆 刘冰 
研究了ｐ－Ｓｉ上恒电流沉积Ｎｉ－Ｗ－Ｐ合金薄膜组成与结构的关系，讨论了镀层的组成、结构随沉积时间的变化．测定了非晶合金的晶体结构随热处理温度的改变以及ＤＴＡ曲线，结果表明，非晶Ｎｉ－Ｗ－Ｐ合金在晶化过程中形成两个纳米...
关键词：电沉积 薄膜 结构 热稳定性 单晶硅 镍钨磷合金 
不同化学镀液中p－Si上激光诱导局部沉积铜被引量：2
《应用化学》1996年第2期18-21,共4页姜贵凤 郁祖湛 
国家自然科学基金
在化学镀铜浴液中，ｐ－Ｓｉ片在彼长为５１４．５ｎｍ的激光束的照射下，得到了选择性的铜镀层．采用ＡＥｓ、ＳＥＭ、ＲＢＳ和电学技术对比了在３种含不同还原剂的镀液中得到的镀层的形貌、组成、界面扩散及电学性质；探讨了液相激光...
关键词：化学镀铜 激光诱导沉积 化学沉积 铜 镀铜 
p－Si上电沉积Ni－W合金薄膜被引量：2
《应用化学》1996年第2期11-14,共4页郭永 张国庆 姚素薇 郭鹤桐 龚正烈 
国家自然科学基金
利用恒电流沉积法，在ｐ－Ｓｉ上制备出不同Ｗ含量和不同结构的Ｎｉ－Ｗ薄膜，研究了镀液温度，ｐＨ值，电流密度对镀层组成的影响，结果表明，提高温度有利于获得高Ｗ含量的合金．随着镀层中Ｗ含量的增加，Ｎｉ面心立方晶格ｆ．ｃ．ｃ...
关键词：电沉积 合金薄膜 镍 钨 非晶态 
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