PROLITH

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侧墙铬衰减型新结构移相掩模的应用
《Journal of Semiconductors》2006年第z1期340-342,共3页谢常青 刘明 陈宝钦 叶甜春 
国家自然科学基金资助项目(批准号:60376020)
提出了一种全新的移相掩模--侧墙铬衰减型移相掩模(SCAPSM),相对于通常的衰减型移相掩模,其制造工艺仅多两步,却可以较大幅度提高光刻分辨率.采用PROLITH光学光刻模拟软件,参考ArF步进扫描投影光刻机TWINSCAN XT:1400E的曝光参数,对侧...
关键词：193nm光学光刻 衰减型移相掩模 离轴照明 数值孔径 PROLITH 
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