TMAH

作品数：58被引量：116H指数：6
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通过添加表面活性剂和螯合剂改进硅片化学清洗工艺的研究被引量：7
《半导体光电》2014年第3期468-471,共4页黄绍春 刘新 叶嗣荣 刘小芹 
通过在传统RCA清洗法所用的SC-1液中,添加表面活性剂四甲基氢氧化铵(TMAH)和/或螯合剂乙二胺四乙酸(EDTA),实验比较了不同清洗方法对颗粒粘污、金属粘污的去除效率;并测试了其对硅片表面粗糙度的影响。用MOS电容结构的击穿电场强度Weib...
关键词：RCA清洗法 湿法化学清洗 四甲基氢氧化铵(TMAH) 乙二胺四乙酸(EDTA) 
MEMS工艺中TMAH湿法刻蚀的研究被引量：9
《半导体光电》2003年第2期127-130,共4页罗元 李向东 付红桥 黄尚廉 
重庆市院士基金资助项目(6795)
　TMAH具有刻硅速率高、晶向选择性好、低毒性和对CMOS工艺的兼容性好等优点,而成为MEMS工艺中常用的刻蚀剂。但TMAH在刻蚀过程中会形成表面小丘,影响表面光滑性。文章重点研究了MEMS工艺中的TMAH湿法刻蚀获得光滑刻蚀表面的工艺。实验...
关键词：湿法刻蚀 TMAH MEMS 微机械技术 微加工工艺 半导体 
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