TMAH

作品数:58被引量:116H指数:6
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UV/O_(3)工艺处理电子工业TMAH废水
《中国给水排水》2024年第9期63-68,共6页张立成 冯锴 刘澈 张志磊 
为了解决电子工业四甲基氢氧化铵(TMAH)废水难以生物降解的问题,分析了紫外/臭氧(UV/O_(3))高级氧化工艺处理TMAH废水的可行性,并基于Box-Behnken响应曲面法评价了反应时间、O_(3)初始浓度、pH等因素对UV/O_(3)工艺处理TMAH废水的影响...
关键词:高级氧化 紫外/臭氧 四甲基氢氧化铵 响应曲面法 
TMAH废水处理方案的减碳优化
《节能》2024年第4期91-93,共3页李雪纯 沈枫然 马圣祥 马兴冠 
基于排放因子法对四甲基氢氧化铵(TMAH)废水处理方案进行碳核算。结果显示:电耗为TMAH废水处理碳排放的主要贡献因素。TMAH废水处理方案中,电耗的间接碳排放量最大,占48.31%;N_(2)O的直接碳排放量最小,占11.96%。在电耗碳排放过程中,泵...
关键词:TMAH废水 排放因子法 碳排放核算 碳补偿 碳减排 
KOH和TMAH基腐蚀液中凸角补偿结构的研究
《中国计量大学学报》2023年第3期421-428,共8页孙卫华 韩建强 徐宇翔 张智超 施阁 
浙江省自然科学基金重点项目(No.LZ22F040002)。
目的:在湿法各向异性腐蚀MEMS微结构过程中常出现凸角底切现象,需要设计凸角补偿图案以获得完整的凸角结构。方法:实验测量了不同电阻率的硅片在KOH和TMAH基腐蚀液中的底切率和八种凸角补偿图案的补偿深度,并与理论预测的补偿深度进行...
关键词:各向异性湿法腐蚀 凸角补偿 加速度计 底切率 补偿深度 
基于TMAH废水的厌氧反应器螺旋布水器性能研究被引量:1
《河南化工》2023年第7期17-21,共5页杨鹿 董连东 王子凡 蒋士龙 董全宇 张伟浩 
以CFD流体软件为工具,以TMAH废水处理厌氧反应器为分析对象,模拟其内部的流动,提出了一种螺旋布水器。研究螺旋布水器形成的螺旋流态,分析螺旋布水器的布水孔对反应器流场和性能的影响。结果表明,布水器中布水孔斜置可在反应器内部形成...
关键词:TMAH 厌氧反应器 螺旋布水器 布水孔 流场 污泥 CFD 
液晶面板显影液废水中常见物质对TMAH厌氧降解的影响
《净水技术》2023年第4期111-120,共10页曹依晴 吕娟 董佳奇 倪琪 欧昌源 
四甲基氢氧化铵(TMAH)是薄膜晶体管液晶显示器(TFT-LCD)生产过程中所产生显影液废水的主要成分,具有强碱性和生物毒性。为研究显影液废水中常见物质对TMAH厌氧生物降解的影响,文中选取实际显影液废水中常见的二甲基亚砜(DMSO)、N-甲基...
关键词:显影液废水 四甲基氢氧化铵 厌氧 共存物质 活性污泥法 
Thermodynamic study of the removal of heavy metal ions from heavy oils using tetramethyl ammonium hydroxide pentahydrate ionic liquid
《Petroleum Research》2022年第4期545-550,共6页Festus M.Adebiyi Reuben O.Yoade 
This study investigated efficiency of tetramethyl ammonium hydroxide pentahydrate(TMAH)in removal of heavy metal ions from heavy oils obtained from Nigerian oil sands by Soxhlet-extraction technique.Metals were remove...
关键词:AAS Heavy oil Metal Thermodynamics parameters TMAH 
ICP-MS法测定乳制品中碘的含量被引量:3
《饮料工业》2022年第2期24-28,共5页宁月莲 岳虹 黄晓燕 胡文慧 刘丽君 李翠枝 
建立了基于ICP-MS(Inductively Coupled Plasma Mass Spectrometry,ICP-MS)测定乳制品中碘的方法。用5%TMAH做提取剂,在85℃水浴震荡3h,水定容50mL,在4℃、8000r/min条件下离心10 min,滤液在ICP-MS仪器上分析。当碘的添加量在0.1mg/kg~2...
关键词:ICP-MS  TMAH 乳制品 
先进制程用光刻胶及TMAH显影液的改进
《浙江化工》2021年第7期13-17,共5页张之钧 尹云舰 李潇逸 倪芸岚 邢攸美 
浙江省科技计划项目(2019C01087)。
光刻是一种利用曝光、显影和刻蚀等工艺将光掩模上的图形转移到衬底材料上的工艺,是半导体器件制造工艺中的重要步骤。其中,在光刻胶层刻画图形时,主要涉及材料为光刻胶、显影液。在G线(436 nm)、I线(365 nm)光刻工艺中,光刻胶主要是酚...
关键词:光刻工艺 光刻胶 显影液 
一种面向MEMS矢量水听器的硅纳米线制备方法被引量:2
《中北大学学报(自然科学版)》2020年第5期455-460,共6页史一明 齐秉楠 白建新 宋金龙 王卫东 王任鑫 
国家自然科学基金青年科学基金资助项目(61604134);国防科技重点实验室基金(6142109KF201804);博士后特别资助计划(2017T100171);实验室开放基金(JZ2018036WR)。
为了进一步提高MEMS矢量水听器灵敏度,把硅纳米线作为压敏单元,将硅纳米线工艺引入到MEMS矢量水听器制备过程中,利用其所具有的巨压阻效应来提高MEMS矢量水听器的灵敏度.本文提出了一种自上而下的微加工工艺方法,将TMAH(四甲基氢氧化铵...
关键词:MEMS矢量水听器 硅纳米线 自上而下法 TMAH各向异性腐蚀 干法刻蚀 半导体工艺 
TMAH浓度对生物硝化系统中微生物群落多样性的影响被引量:1
《环境保护前沿》2020年第5期763-773,共11页李慧仪 谢奇旭 谭发祥 
本研究以高科技产业常用化学品氢氧化四甲基铵(Tetramethylammonium hydroxide, TMAH)作为研究目标,以生物处理方法进行TMAH生物急毒性减量,期能解决高科技产业废水生物急毒性议题。针对含TMAH的工艺废水,以好氧(Aerobic)反应槽进行探讨...
关键词:TMAH 高通量测序 细菌群落结构 菌种多样性 
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