HFO2薄膜

作品数：65被引量：149H指数：6
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反应电子束蒸发HfO2薄膜的结构、光学、化学和抗激光损伤特性被引量：7
《中国激光》2020年第4期162-168,共7页余振 张伟丽 朱瑞 齐红基 
采用反应电子束蒸发技术在不同氧分压下制备了HfO2薄膜,并采用X射线衍射仪、扫描电子显微镜、椭圆偏振仪、X射线光电子能谱仪、1064 nm弱吸收测试仪、1064 nm激光1-on-1损伤测试系统等,对HfO2薄膜的结构、光学性能、化学组分、吸收性能...
关键词：薄膜 反应蒸发 氧分压 抗激光损伤特性 
充氧口位置对电子束蒸发沉积HfO_2薄膜性质的影响被引量：2
《中国激光》2016年第10期127-132,共6页郑如玺 易葵 范正修 邵建达 涂飞飞 
国家自然科学基金(61308012)
充氧口位置直接影响了真空室内的氧气分布,进而对薄膜的光学性能造成重要影响。为了研究充氧口位置对HfO_2薄膜性质的影响,在2个典型的充氧口位置采用电子束蒸发技术在石英基底上沉积了HfO_2单层膜,并结合紫外-可见光分光光度计和X射线...
关键词：薄膜 HFO2薄膜 充氧口位置 k-ε模型 电子束蒸发 数值模拟 
End-Hall与APS离子源辅助沉积制备的薄膜特性被引量：4
《中国激光》2011年第11期208-213,共6页艾万君 熊胜明 
国家863计划资助课题
利用离子束辅助沉积(IAD)技术制备了单层HfO2薄膜,离子源分别为End-Hall与APS离子源。采用Lambda900分光光度计、可变角光谱椭圆偏振仪(V-VASE)、X射线衍射仪(XRD)、扫描电子显微镜(SEM)、ZYGO干涉仪和激光量热计测试了薄膜的透射光谱...
关键词：薄膜 HFO2薄膜 离子束辅助沉积 离子源 薄膜特性 
沉积温度对电子束蒸发HfO_2薄膜残余应力的影响被引量：9
《中国激光》2006年第6期827-831,共5页申雁鸣 贺洪波 邵淑英 范正修 
国家863计划(2005AA842040)资助项目
采用电子束蒸发沉积方法在BK7玻璃基底和熔融石英基底上沉积了HfO2薄膜,研究了不同沉积温度下的应力变化规律。利用ZYGO干涉仪测量了基片镀膜前后曲率半径的变化,计算了薄膜应力。结果发现在所考察的实验条件下HfO2薄膜的残余应力均为...
关键词：薄膜 HFO2薄膜 残余应力 沉积温度 基底 电子束蒸发 
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