熊胜明

作品数：69被引量：262H指数：10
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供职机构：中国科学院光电技术研究所更多>>
发文主题：光学薄膜离子束溅射光腔衰荡均匀性反射率更多>>
发文领域：理学电子电信机械工程一般工业技术更多>>
发文期刊：《光子学报》《中国激光》《应用光学》《光学学报》更多>>
所获基金：国家高技术研究发展计划国防科技工业技术基础科研项目国家自然科学基金更多>>
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双离子束溅射中红外SiO_2薄膜热稳定性研究（英文）被引量：1
《光子学报》2017年第8期102-108,共7页尚鹏 季一勤 赵道林 熊胜明 刘华松 李凌辉 田东 
The National Natural Science Foundation of China(No.61405145);Natural Foundation of TianJin(No.17JCQNJC01900)
通过双离子束溅射方法在蓝宝石、硅衬底上制备了单层SiO_2薄膜,分析了SiO_2薄膜残余应力、表面形貌、微观结构以及光学性能(可见-近红外0.4~1.2μm和中红外3~5μm波段)在400℃~1 000℃温度范围内的演化规律.研究结果表明:在400℃附近,Si...
关键词：薄膜 红外窗口 离子溅射 热稳定性 
离子束辅助沉积大口径光学薄膜被引量：10
《红外与激光工程》2015年第B12期183-188,共6页艾万君 熊胜明 
利用国内最大箱式高真空镀膜设备ZZS3600,开展了双离子束辅助反应蒸发技术及光学薄膜厚度均匀性研究。借助MarkⅡ离子源辅助反应蒸发技术,对Ta_2O_5、SiO_2常见的高、低折射率光学薄膜进行了制备与特性分析。结果表明:在蒸发源与沉积基...
关键词：离子辅助沉积 高真空镀膜设备 大口径光学薄膜 光学特性 膜厚均匀性 
热载荷条件下TiO_2薄膜热应力有限元分析（英文）被引量：1
《光电工程》2015年第5期45-51,共7页尚鹏 李定 艾万君 熊胜明 
在高温环境下,由于不匹配性而产生的热应力是影响薄膜结构及性能稳定性的重要因素。本文使用有限元的方法,从热应力的角度研究分析了高温环境下导致薄膜损伤的内在机理及相关可能的改善方法。仿真结果表明,在高温环境下,基板与薄膜匹配...
关键词：热应力 有限元方法 TiO2/SiO2薄膜 复合过渡层 
离子束溅射氧化物薄膜的中红外特性被引量：8
《中国激光》2015年第1期219-223,共5页李定 熊胜明 
以离子束溅射沉积(IBSD)方法制备了Al2O3、Nb2O5单层膜,用红外可变角度光谱椭圆偏振仪(IR-VASE)测试了薄膜的光学常数。用原子力显微镜(AFM)测量了单层膜的表面形貌及表面粗糙度,计算了单个表面的总积分散射(TIS)。以Nb2O5和Al2O3为高...
关键词：薄膜 氧化物薄膜 离子束溅射 中红外 水吸收 
高重复频率DPL激光对光学薄膜元件损伤实验研究被引量：1
《红外与激光工程》2014年第7期2074-2080,共7页代福 熊胜明 
国家高技术激光技术项目
光学薄膜的高重频激光损伤特性一直是激光薄膜研究者的重点。为了分析光学薄膜在高重频激光辐照下的损伤特性,探究其损伤机理,文中从实验出发,研究了重复频率10kHz DPL激光对光学薄膜元件的损伤特性。结果表明,修正膜层内的驻波场分布,...
关键词：光学薄膜 重频DPL激光 驻波场修正 损伤机理 
光谱法确定离子束溅射Ta_2O_5/SiO_2薄膜的光学常数及其性能被引量：7
《光学学报》2014年第5期298-304,共7页尚鹏 熊胜明 李凌辉 田东 
采用双离子溅射的方法,在硅、石英基底上制备了单层Ta2O5、SiO2及双层Ta2O5/SiO2光学薄膜。结合Cauchy色散模型,利用石英基底上单层Ta2O5及双层Ta2O5/SiO2薄膜透射光谱曲线,采用改进的遗传单纯形混合算法,获得了Ta2O5和SiO2薄膜材料在40...
关键词：薄膜 光学常数 透射光谱 Ta2O5/SiO2 
ZnSe衬底表面亚波长增透结构的设计及误差分析被引量：7
《中国激光》2014年第1期251-256,共6页尚鹏 熊胜明 
以矢量严格耦合波（RCWA）理论为基础，通过遗传算法优化设计了圆柱形ZnSe亚波长微增透结构，获得了具有较好增透效果的结构参数；重点讨论分析了实际加工过程中圆柱形方向偏差及整体面形轮廓偏差对抗反射特性的影响；还对多台阶ZeSe增...
关键词：衍射 增透结构 耦合波理论 ZNSE 亚波长 
单层二氧化铪(HfO_2)薄膜的特性研究被引量：10
《光电工程》2012年第2期134-140,共7页艾万君 熊胜明 
利用电子束蒸发、离子束辅助沉积和离子束反应溅射三种制备方法制备了单层HfO2薄膜,对薄膜样品的晶体结构、光学特性、表面形貌以及吸收特性进行了研究。实验结果表明,薄膜特性与制备工艺有着密切的关系。电子束蒸发和离子束反应溅射制...
关键词：电子束蒸发 离子束辅助沉积 离子束反应溅射 HFO2薄膜 薄膜特性 
End-Hall与APS离子源辅助沉积制备的薄膜特性被引量：4
《中国激光》2011年第11期208-213,共6页艾万君 熊胜明 
国家863计划资助课题
利用离子束辅助沉积(IAD)技术制备了单层HfO2薄膜,离子源分别为End-Hall与APS离子源。采用Lambda900分光光度计、可变角光谱椭圆偏振仪(V-VASE)、X射线衍射仪(XRD)、扫描电子显微镜(SEM)、ZYGO干涉仪和激光量热计测试了薄膜的透射光谱...
关键词：薄膜 HFO2薄膜 离子束辅助沉积 离子源 薄膜特性 
3.6m大口径镀膜机膜厚均匀性分析被引量：10
《光电工程》2011年第11期73-78,共6页艾万君 熊胜明 
分别建立了旋转平面与球面夹具配置下的薄膜膜厚均匀性理论计算模型,对3.6m大口径镀膜机下直径为2.6m基板的膜厚均匀性进行了研究。为了改善膜厚均匀性,分别采用两个蒸发源和三个蒸发源进行蒸镀。薄膜的膜厚不均匀性通过理论计算模型进...
关键词：大口径镀膜机 理论计算模型 膜厚分布 均匀性 薄膜 
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