艾万君

作品数：5被引量：33H指数：3
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供职机构：中国科学院光电技术研究所更多>>
发文主题：离子束辅助沉积HFO2薄膜大口径光学薄膜膜厚均匀性更多>>
发文领域：理学更多>>
发文期刊：《红外与激光工程》《中国激光》《光电工程》更多>>
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离子束辅助沉积大口径光学薄膜被引量：9
《红外与激光工程》2015年第B12期183-188,共6页艾万君 熊胜明 
利用国内最大箱式高真空镀膜设备ZZS3600,开展了双离子束辅助反应蒸发技术及光学薄膜厚度均匀性研究。借助MarkⅡ离子源辅助反应蒸发技术,对Ta_2O_5、SiO_2常见的高、低折射率光学薄膜进行了制备与特性分析。结果表明:在蒸发源与沉积基...
关键词：离子辅助沉积 高真空镀膜设备 大口径光学薄膜 光学特性 膜厚均匀性 
热载荷条件下TiO_2薄膜热应力有限元分析（英文）被引量：1
《光电工程》2015年第5期45-51,共7页尚鹏 李定 艾万君 熊胜明 
在高温环境下,由于不匹配性而产生的热应力是影响薄膜结构及性能稳定性的重要因素。本文使用有限元的方法,从热应力的角度研究分析了高温环境下导致薄膜损伤的内在机理及相关可能的改善方法。仿真结果表明,在高温环境下,基板与薄膜匹配...
关键词：热应力 有限元方法 TiO2/SiO2薄膜 复合过渡层 
单层二氧化铪(HfO_2)薄膜的特性研究被引量：10
《光电工程》2012年第2期134-140,共7页艾万君 熊胜明 
利用电子束蒸发、离子束辅助沉积和离子束反应溅射三种制备方法制备了单层HfO2薄膜,对薄膜样品的晶体结构、光学特性、表面形貌以及吸收特性进行了研究。实验结果表明,薄膜特性与制备工艺有着密切的关系。电子束蒸发和离子束反应溅射制...
关键词：电子束蒸发 离子束辅助沉积 离子束反应溅射 HFO2薄膜 薄膜特性 
End-Hall与APS离子源辅助沉积制备的薄膜特性被引量：4
《中国激光》2011年第11期208-213,共6页艾万君 熊胜明 
国家863计划资助课题
利用离子束辅助沉积(IAD)技术制备了单层HfO2薄膜,离子源分别为End-Hall与APS离子源。采用Lambda900分光光度计、可变角光谱椭圆偏振仪(V-VASE)、X射线衍射仪(XRD)、扫描电子显微镜(SEM)、ZYGO干涉仪和激光量热计测试了薄膜的透射光谱...
关键词：薄膜 HFO2薄膜 离子束辅助沉积 离子源 薄膜特性 
3.6m大口径镀膜机膜厚均匀性分析被引量：9
《光电工程》2011年第11期73-78,共6页艾万君 熊胜明 
分别建立了旋转平面与球面夹具配置下的薄膜膜厚均匀性理论计算模型,对3.6m大口径镀膜机下直径为2.6m基板的膜厚均匀性进行了研究。为了改善膜厚均匀性,分别采用两个蒸发源和三个蒸发源进行蒸镀。薄膜的膜厚不均匀性通过理论计算模型进...
关键词：大口径镀膜机 理论计算模型 膜厚分布 均匀性 薄膜 
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