液态金属离子源

作品数：33被引量：44H指数：4
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液态金属离子源在航天器电位主动控制的应用被引量：1
《真空与低温》2014年第5期249-254,259,共7页蒋锴 王先荣 杜杉杉 王胜杰 
航天器在轨运行期间太阳光照条件下,受光电子发射影响,航天器光照表面的电位达到正的数十伏。航天器表面带电现象会对其在轨安全稳定运行和空间等离子体探测数据的准确性造成严重影响。带正电航天器周围电场中离子和电子的速率和空间分...
关键词：航天器 表面带电 电位主动控制 液态金属离子源 
用于聚焦离子束系统的离子源
《原子核物理评论》2011年第4期439-443,共5页尚勇 赵环昱 
国家自然科学基金资助项目(60706006;10225523)~~
介绍了现阶段两种用于聚焦离子束系统的离子源——液态金属离子源和气体场发射离子源的基本原理,并对比了它们的优缺点。由于目前这两种离子源都难以满足纳米加工领域不断提高的技术要求,因此提出了一种用于聚焦离子束的新型离子源——...
关键词：聚焦离子束系统 液态金属离子源 气体场发射离子源 电子束离子源 
聚焦离子束系统液态金属离子源的研制被引量：2
《真空科学与技术学报》2008年第4期331-336,共6页马向国 刘同娟 顾文琪 
设计了一种聚焦离子束系统用液态金属离子源(Liquid Metal lon Source-LMIS),本文对该源组件结构的设计、发射针尖的腐蚀工艺、挂金属镓工艺、测试系统的设计作了介绍;然后对该离子源的I-V特性、角电流密度、稳定性以及寿命等性能进行...
关键词：聚焦离子束 液态金属离子源 测试系统 发射特性 
聚焦离子束技术及其在微纳加工技术中的应用被引量：4
《真空》2007年第6期74-78,共5页马向国 刘同娟 顾文琪 
聚焦离子束(FIB)技术是一种集形貌观测、定位制样、成份分析、薄膜淀积和无掩模刻蚀各过程于一身的新型微纳加工技术。它突破了只能对表层成像和分析的局限,可以对样品进行三维的、表面下的观察和分析,也可以对样品材料进行切割研磨和...
关键词：聚焦离子束 液态金属离子源 微纳加工技术 
液态金属离子源发射系统的仿真分析被引量：1
《真空科学与技术学报》2007年第5期370-376,共7页马向国 刘同娟 顾文琪 
液态金属离子源的发射系统是源设计当中一个十分重要的因素,它的性能的优劣将直接影响到整个离子源的发射特性,进而影响整个聚焦离子束设备的工作性能。因而,在离子源的设计过程中,人们希望通过仿真手段得到影响源发射特性的源几何尺寸...
关键词：液态金属离子源 模拟电荷法 发射系统 蒙特卡罗方法 
液态金属镓离子源的制备被引量：1
《微细加工技术》2007年第1期7-10,59,共5页马向国 刘同娟 顾文琪 
叙述了为纳米聚焦离子束装置研制的镓液态金属离子源的制备,并对该离子源的I-V特性、角电流密度、稳定性以及寿命等性能进行了测试,结果表明,该源的各项指标均达到了聚焦离子束系统对液态金属离子源的性能要求。
关键词：聚焦离子束 液态金属离子源 测试系统 发射尖 
聚焦离子束曝光技术被引量：2
《电子工业专用设备》2005年第12期56-58,共3页马向国 顾文琪 
聚焦离子束技术是一种集形貌观测、定位制样、成份分析、薄膜淀积和无掩模刻蚀各过程 于一身的新型微纳加工技术。它大大提高了微电子工业上材料、工艺、器件分析及修补的精度和速 度,目前已经成为微电子技术领域必不可少的关键技术之...
关键词：聚焦离子束 液态金属离子源 曝光 
聚焦离子束加工技术及其应用被引量：9
《微纳电子技术》2005年第12期575-577,582,共4页马向国 顾文琪 
对聚焦离子束加工技术在集成电路芯片的诊断与修改、修复光刻掩模缺陷、制作透射电镜样品以及多用途微切割上的应用作了详细介绍。
关键词：聚焦离子柬 液态金属离子源 应用 
液态金属离子源发射系统的电场计算
《微细加工技术》2005年第3期20-26,共7页马向国 顾文琪 
针对液态金属离子源的发射系统属于轴对称系统的特点,采用动态喷流柱模型,利用模拟电荷法对液态金属离子源发射系统的电场进行了计算,结果表明,该方法计算精度高,非常适合于电子束、离子束系统发射极附近电场的计算。
关键词：液态金属离子源 模拟电荷法 发射系统 动态喷流柱 
液态金属离子源发射系统电场的模拟分析
《真空科学与技术学报》2005年第6期475-480,共6页马向国 顾文琪 
发射系统是液态金属离子源的关键部件之一,它的性能的优劣直接影响到整个离子源的工作稳定性和可靠性。因而对其发射系统进行仿真分析,可以很好地指导液态金属离子源的设计制造。本文采用国际上重视的动态喷流柱模型,利用模拟电荷法对...
关键词：液态金属离子源 模拟电荷法 发射系统 动态喷流柱 
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