彭永清

作品数:4被引量:4H指数:1
导出分析报告
供职机构:中国科学院半导体研究所更多>>
发文主题:光敏半导体材料更多>>
发文领域:化学工程环境科学与工程电子电信理学更多>>
发文期刊:《Journal of Semiconductors》《低温与特气》更多>>
-

检索结果分析

署名顺序

  • 全部
  • 第一作者
结果分析中...
条 记 录,以下是1-4
视图:
排序:
半导体材料与器件生产工艺尾气中砷、磷、硫的治理及检测被引量:4
《Journal of Semiconductors》1995年第3期188-194,共7页闻瑞梅 梁骏吾 邓礼生 彭永清 
本文研究了化合物半导体材料、器件生产工艺过程中排出的有毒物质砷、磷、硫及其化合物的治理方法.还研究了这些有毒物质的低温富集取样及快速、灵敏的分析监测方法,并与其它经典的方法作了对比.
关键词:生产工艺 尾气    治理 检测 半导体材料 
无污染进样法分析电子气中的痕量氧
《低温与特气》1989年第4期56-58,共3页彭永清 李建平 尹恩华 
电子工业中使用的高纯气体要求含氧量在0.2~0.05ppm。这不仅要求分析方法灵敏度高,而且还要解决外界氧的污染问题。为了避免在分析进样时环境中的氧对样品气的污染,我们在ZAV—2型微氧仪(日本产)上设计安装了无污染进样装置。同时,
关键词:痕量氧 电子气 无污染进样法 
GI型特气净化剂研制
《低温与特气》1989年第2期34-34,43,共2页尹恩华 陆大成 彭永清 
为了对特种气体进行净化,我们于1984年开展了GI型净化剂的研制。经过几年的努力,已研制成一种能用于永久性气体和特种气体的以镓为主要原料的净化剂,其脱氧深度对于8ppm的氢气可脱到0.03ppm,其脱水可由375ppm(露点-30℃)脱到0.54ppm(露...
关键词:气体 特种气体 净化 净化剂  
气敏色谱法分析硅烷和磷烷
《低温与特气》1988年第1期43-44,共2页彭永清 李建平 尹恩华 
研究用气敏(氢敏)色谱仪分析硅烷和磷烷的方法,获得了成功的结果。分析硅烷和磷烷的最小检测量分别为0.06ppm和0.13ppm。用注射进样结合稀释法测得硅烷和磷烷的相对标准偏差分别为±2.96%和±3.78%。
关键词:磷烷 硅烷 气敏 色谱法 相对标准 色谱仪 检测量 稀释法 
检索报告 对象比较 聚类工具 使用帮助 返回顶部