栾亚

作品数：4被引量：11H指数：2
导出分析报告
供职机构：西安理工大学材料科学与工程学院更多>>
发文主题：磁控溅射粗糙度磁控溅射离子镀磁场C/C更多>>
发文领域：金属学及工艺一般工业技术更多>>
发文期刊：《材料热处理学报》《人工晶体学报》《中国表面工程》更多>>
所获基金：国家高技术研究发展计划更多>>
-
在结果中检索

检索结果分析

署名顺序

  • 全部
  • 第一作者
结果分析中...
共 条 记 录，以下是1-4
全选清除导出
参考文献引证文献引用追踪
视图：
排序：
磁场闭合度对等离子体空间分布状态及CrN_x镀层沉积效率的影响被引量：2
《材料热处理学报》2011年第1期92-96,共5页蒋百灵 曹政 鲁媛媛 栾亚 
国家高技术研究发展计划(863计划);闭合场非平衡磁控溅射离子镀镀膜装备研制和技术开发(2005AA33H010)
采用Langmuir探针测定了不同磁场闭合状态下辉光放电环境中的电子温度(Te)、电子密度(ne)及离子密度(ni)空间分布状态,探讨了磁场闭合度对CrNx镀层沉积效率的影响机理。结果表明:三种磁场闭合状态下,电子温度都在靶面处最高,相邻靶间对...
关键词：磁场闭合状态 电子温度 电子密度 离子密度 CrNx镀层 
闭合状态对磁控溅射Cr镀层生长过程的影响被引量：4
《人工晶体学报》2009年第4期924-929,共6页栾亚 丁小柯 蒋百灵 鲁媛媛 
国家高技术研究发展计划(863计划)(No.2005AA33H010)
利用非平衡磁控溅射离子镀技术于不同磁场闭合状态下在单晶硅基体上制备出Cr膜,采用扫描电子显微镜和X射线衍射仪观察并分析了不同闭合状态下镀层的微观形貌和晶体择优生长趋势。结果表明:闭合状态显著影响着Cr膜生长过程中的柱状晶取...
关键词：闭合状态 磁控溅射 择优取向 
非平衡度和闭合状态对磁控溅射离子镀过程的影响被引量：4
《材料热处理学报》2009年第2期115-120,共6页蒋百灵 文晓斌 栾亚 丁小柯 李显 
国家高技术研究发展计划(863计划);闭合场非平衡磁控溅射离子镀镀膜装备研制和技术开发(2005AA33H010)
利用非平衡磁控溅射离子镀技术于不同磁控管非平衡度和磁场闭合状态下在单晶硅基体上制备出Cr镀层,采用扫描电子显微镜、X射线衍射仪分析了不同生长阶段Cr镀层的微观形貌、表面粗糙度和晶体择优生长趋势的变化。结果表明:磁控管非平衡...
关键词：磁控管非平衡度 闭合状态 磁控溅射离子镀 粗糙度 择优取向 
靶基距对C/Cr复合镀层厚度影响的研究被引量：2
《中国表面工程》2006年第1期47-50,共4页邓凌超 栾亚 张国君 蒋百灵 
国家高技术研究发展计划(863计划);闭合场非平衡磁控溅射离子镀镀膜装备的研究开发(2005AA33H010)
以四靶闭合场非平衡磁控溅射方法制备C/Cr镀层,用球痕法测量镀层厚度,研究了镀层厚度及均匀性随靶基距的变化规律,并探讨了靶基距影响镀层厚度的机理。结果表明:靶基距对镀层厚度有明显影响;镀层厚度随靶基径向距增大而显著减小,随靶基...
关键词：非中衡磁控溅射 C/Cr镀层 靶基距 厚度 
全选清除导出
共1页<1>
检索报告 对象比较 聚类工具 使用帮助 返回顶部