刘柱方

作品数：4被引量：8H指数：2
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供职机构：厦门大学化学系更多>>
发文主题：约束刻蚀剂层技术CELT金属微加工金属铜更多>>
发文领域：金属学及工艺电子电信理学更多>>
发文期刊：《微纳电子技术》《应用化学》更多>>
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镍表面三维微图形的复制加工被引量：2
《电化学》2004年第3期249-253,共5页刘柱方 蒋利民 汤儆 张力 田中群 田昭武 刘品宽 孙立宁 
科技部 863计划项目 (2 0 0 2AA40 41 70 )资助
　运用约束刻蚀剂层技术(CELT)在金属镍(Ni)表面实现三维微图形加工,以规整的三维齿状微结构作模板,获得可有效CELT加工的化学刻蚀和捕捉体系,在Ni表面得到了与齿状结构互补的三维微结构并应用扫描电子显微镜(SEM)和原子力显微镜(AFM)...
关键词：镍 三维微图形 复制加工 约束刻蚀剂层技术 化学刻蚀 捕捉体系 微系统技术 
金属铜表面的三维齿状图形的化学微加工被引量：6
《应用化学》2004年第3期227-230,共4页刘柱方 蒋利民 汤儆 刘品宽 孙立宁 田中群 田昭武 
科技部"八六三"计划资助项目 (2 0 0 2AA40 4170 )
运用约束刻蚀剂层技术 (CELT)在金属铜 (Cu)表面实现了三维微图形加工 ,取得成功的关键因素在于寻找到能对Cu进行有效CELT加工的化学刻蚀和捕捉体系。采用规整的三维齿状结构为模板 ,在Cu表面得到了与齿状结构模板互补的三维微结构。采...
关键词：约束刻蚀剂层技术(CELT) 金属铜 三维微加工 化学刻蚀 
金属Cu表面三维齿状微图形的复制加工——约束刻蚀剂层技术 (CELT)的应用
《微纳电子技术》2003年第7期265-266,共2页刘柱方 蒋利民 汤儆 张力 田昭武 刘品宽 曲东升 孙立宁 叶雄英 周兆英 田中群 
主要介绍了一种Cu的CELT加工的化学刻蚀体系和捕捉体系 ,并通过控制刻蚀时间、刻蚀电流、刻蚀剂浓度、捕捉剂浓度等实验参数和优化电化学模板的制作工艺 ,以规整的齿状结构为模板 ,在Cu的表面实现了三维微结构的复制加工 ,得到了与齿状...
关键词：CU 铜 CELT加工 化学刻蚀体系 捕捉体系 约束刻蚀剂层技术 制作工艺 齿状结构 微加工技术 
金属的电化学微区刻蚀方法被引量：3
《电化学》2002年第2期139-147,共9页蒋利民 田中群 刘柱方 毛秉伟 黄海苟 孙建军 
国家自然科学基金重点项目 ( 2 983 3 0 70 ) ;国家重点基础研究发展规划项目 (G1 9990 3 3 1 0 7) ;国家自然科学基金 ( 60 0 760 0 2 )资助项目
本文概述了现行的金属微区刻蚀方法并详细地介绍几种电化学刻蚀方法 ,比较了掩膜法、扫描电化学显微镜法、约束刻蚀剂层法、电化学扫描遂道显微镜法和超短电位脉冲法各自的特点 .从加工精度 (能否进行微米和纳米级加工 )、加工效率 (工...
关键词：金属 电化学刻蚀 约束刻蚀剂层技术 微加工 
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