郭倩

作品数：4被引量：7H指数：1
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供职机构：河北工业大学更多>>
发文主题：CMP去除速率混合磨料化学机械抛光蓝宝石更多>>
发文领域：电子电信交通运输工程机械工程一般工业技术更多>>
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sol-gel法制备CuO掺杂的TiO_2厚膜及其气敏特性
《微纳电子技术》2014年第2期83-88,104,共7页张炳强 潘国峰 张培硕 郭倩 
国家科技重大专项课题资助项目(2009ZX02308-004);国家自然科学基金资助项目(60972106)
采用溶胶凝胶法制备了纯TiO2和掺杂质量分数为5%,7%和9%CuO的TiO2纳米粉体,并对样品进行了不同温度(500,700和900℃)的退火处理。通过涂敷法制备成气敏元件,利用XRD和SEM对样品的结构和表面形貌进行了表征,并利用气敏测试系统检测其气...
关键词：TiO2厚膜 溶胶凝胶法 气体传感器 CuO掺杂 退火温度 
不同磨料对蓝宝石CMP的影响被引量：7
《微纳电子技术》2014年第2期120-125,共6页赵云鹤 檀柏梅 牛新环 甄加丽 郭倩 
河北省自然科学基金资助项目(E2013202247);河北省教育厅基金资助项目(2011128)
在化学机械抛光(CMP)系统中,磨料是决定去除速率和表面状态的重要因素。在单一磨料下进行了单因素实验,在不同的压力、转速、流量和温度下对比了SiO2磨料和Al2O3磨料对蓝宝石去除速率及表面状态的影响;同时也探究了混合磨料对蓝宝石去...
关键词：蓝宝石 化学机械抛光(CMP) 单一磨料 混合磨料 去除速率 
电化学制备新型氧化液在铜CMP中的应用
《微纳电子技术》2013年第12期789-792,797,共5页甄加丽 檀柏梅 高宝红 郭倩 赵云鹤 
国家中长期发展规划重大科技专项资助项目(2009ZX02308-003)
在铜化学机械抛光(CMP)中,双氧水易分解的不稳定性严重制约铜化学机械抛光速率。为了寻求一种稳定性好且氧化能力强的新型氧化液,采用电化学方法电解水基硫酸盐,得到了氧化性很强且稳定的过氧焦硫酸盐氧化液。采用自制的氧化液配制抛光...
关键词：电化学 铜化学机械抛光(CMP) 双氧水 过氧焦硫酸盐 去除速率 
硼掺杂浓度对金刚石薄膜电极的影响
《微纳电子技术》2013年第11期731-734,共4页郭倩 檀柏梅 高宝红 甄加丽 赵云鹤 
国家中长期发展规划重大科技专项资助项目(2009ZX02308);河北省自然科学基金资助项目(E2013202247);河北省教育厅基金资助项目(2011128)
金刚石由于其独特的物理和化学性质,使其成为电极材料的首选。通过热丝化学气相沉积(HFCVD)技术,在钽片上制备了p型掺硼金刚石(BDD)薄膜电极。通过掺入硼元素在金刚石带隙间引入杂质能级,改变了电极的电学特性,同时硼替位碳原子改变了...
关键词：掺硼金刚石(BDD)薄膜电极 电化学窗口 热丝化学气相沉积(HFCVD) 循环伏安法(CV) 硼掺杂 
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