姚建可

作品数：3被引量：44H指数：3
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供职机构：中国科学院上海光学精密机械研究所更多>>
发文主题：电子束蒸发基底温度直流磁控溅射SIO2薄膜折射率更多>>
发文领域：理学电子电信更多>>
发文期刊：《光学学报》《中国激光》更多>>
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基底温度对直流磁控溅射ITO透明导电薄膜性能的影响被引量：22
《中国激光》2008年第12期2031-2035,共5页曾维强 姚建可 贺洪波 邵建达 
用直流磁控溅射法制备透明导电锡掺杂氧化铟(ITO)薄膜,靶材为ITO陶瓷靶,组分为m(In2O3):m(SnO2)=9∶1。运用分光光度计、四探针测试仪研究了基底温度对薄膜透过率、电阻率的影响,并用X射线衍射(XRD)仪对薄膜进行结构分析。计算了晶面间...
关键词：薄膜 ITO透明导电膜 基底温度 直流磁控溅射 
4H-SiC基底Al2O3／SiO2双层减反射膜的设计和制备被引量：4
《光学学报》2008年第12期2431-2435,共5页黄火林 张峰 吴正云 齐红基 姚建可 范正修 邵建达 
在4H-SiC基底上设计并制备了Al2O3/SiO2紫外双层减反射膜,通过扫描电镜(SEM)和实测反射率谱来验证理论设计的正确性。利用编程计算得到Al2O3和SiO2的最优物理膜厚分别为42.0nm和96.1nm以及参考波长λ=280nm处最小反射率为0.09%。由误差...
关键词：薄膜光学 Al2O3/SiO3双层减反射膜 电子束蒸发 4H—SiC基底 折射率 
SiO2薄膜折射率的准确拟合分析被引量：18
《中国激光》2008年第5期760-763,共4页王胭脂 张伟丽 范正修 黄建兵 晋云霞 姚建可 邵建达 
精确的光学常数对于设计和制备高品质的光学薄膜非常重要,尤其是那些光学性能对折射率变化敏感的薄膜。SiO_2是一种常用的低折射率材料,因与常用基底折射率相近使其准确拟合有一定难度。实验通过离子束溅射制备了SiO_2单层膜。考虑测量...
关键词：薄膜 SiO2折射率 包络法 准确拟合 
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