简红彬

作品数：4被引量：22H指数：3
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供职机构：河北大学电子信息工程学院更多>>
发文主题：LPCVD热壁LPCVDSIC薄膜化学汽相沉积物理性质更多>>
发文领域：理学电子电信机械工程更多>>
发文期刊：《河北大学学报（自然科学版）》《人工晶体学报》《微纳电子技术》更多>>
所获基金：河北省自然科学基金更多>>
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提高Si量子点发光强度的途径
《微纳电子技术》2006年第10期476-480,491,共6页康建波 彭英才 简红彬 马蕾 张雷 
探讨了提高Si量子点发光强度的可能途径。这些方法主要包括:采用高密度和小尺寸的有序Si量子点、光学微腔结构、表面钝化处理技术和稀土发光中心掺杂。
关键词：Si量子点 发光强度 光致发光 电致发光 
纳米晶粒多晶Si薄膜的低压化学气相沉积被引量：5
《人工晶体学报》2006年第3期560-564,共5页彭英才 马蕾 康建波 范志东 简红彬 
河北省自然科学基金(No.503125);中国科学院半导体研究所半导体材料科学重点实验室开放课题资助
利用低压化学气相沉积(LPCVD)方法,以充Ar的S iH4作为反应气体源,在覆盖有热生长S iO2层的p-(100)S i衬底上制备了具有均匀分布的纳米晶粒多晶S i膜(nc-poly-S i)。采用扫描电子显微镜(SEM)、原子力显微镜(AFM)和拉曼谱等检测手段,测量...
关键词：LPCVD 纳米晶粒 多晶Si膜 结晶成核 晶粒融合 
SiC薄膜的化学汽相沉积及其研究进展被引量：10
《微纳电子技术》2006年第1期11-15,共5页简红彬 康建波 于威 马蕾 彭英才 
介绍了SiC薄膜的一种主要制备方法———化学汽相沉积(CVD)法制备SiC薄膜的近年研究进展,并对所制备薄膜的结构特征与物理性质进行了简要评述。
关键词：SIC薄膜 化学汽相沉积 物理性质 器件应用 
多晶硅薄膜制备技术的研究进展被引量：7
《河北大学学报（自然科学版）》2005年第1期97-103,共7页马蕾 简红彬 康建波 彭英才 
河北省自然科学基金资助项目(503125)
多晶硅薄膜是当前在能源科学和信息技术领域中广泛使用的功能材料,它兼具单晶硅和氢化非晶硅(a-Si:H)的优点.本文评论了近几年多晶硅薄膜制备技术的研究进展,着重讨论了每种方法薄膜的淀积机理,并预测了多晶硅薄膜制备技术的未来发展趋势.
关键词：多晶硅薄摸 低压化学气相淀积 热丝化学气相淀积 固相晶化 激光诱导晶化 金属诱导晶化 
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