宋庆山

作品数:6被引量:2H指数:1
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供职机构:中国科学院计算技术研究所更多>>
发文主题:传感器溅射磁场热处理FE更多>>
发文领域:理学一般工业技术电气工程电子电信更多>>
发文期刊:《自然科学进展》《计算机研究与发展》《金属学报》《材料工程》更多>>
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纳米晶软磁薄膜Fe-Ti-N的结构、磁学性能和热稳定性研究
《金属学报》2003年第2期204-208,共5页李丹 顾有松 常香荣 李福燊 乔利杰 田中卓 方光旦 宋庆山 
国家自然科学基金资助项目19890310
在高溅射功率900 W 下用RF磁控溅射方法制备了厚为630-780nm的Fe-Ti-N薄膜,结果表明:当膜成分(原了分数, %.下同)在Fe-3.9Ti-8.8N和Fe-3.3Ti-13.5N范围内,薄膜由α’和Ti2N沉淀组成,磁化强度4πMs超过纯铁,最商可达2.38T:而矫顽力Hc下...
关键词:结构 磁学性能 热稳定性 Fe-Ti-N纳米软磁薄膜 磁场热处理 高饱和磁化强度 
降低Fe-N软磁薄膜矫顽力的途径
《自然科学进展》2002年第11期1177-1181,共5页李丹 周剑平 顾有松 常香荣 李福燊 乔利杰 田中卓 方光旦 宋庆山 
国家自然科学基金(批准号:19392300;19890310)
用RF磁控溅射沉积的Fe-N磁性薄膜,饱和磁化强度比较高,但矫顽力太高,因而降低H_c成为Fe-N是否可以用于高密度磁记录的关键,在低功率200W下溅射沉积200um的薄膜,在250℃,12000 A/m磁场下真空热处理后,当N含量在f_A为5%~7%范围内,形成a...
关键词:Fe-N软磁薄膜 矫顽力 RF磁控溅射 饱和磁化强度 磁记录材料 
Fe-N软磁薄膜的结构和性能被引量:1
《中国科学(A辑)》2002年第2期132-140,共9页周剑平 李丹 顾有松 赵春生 常香荣 李福燊 乔利杰 田中卓 方光旦 宋庆山 
国家自然科学基金资助项目(批准号:19392300;19890310)
用RF溅射制备厚度为200nm的Fe-N薄膜在250℃,12000A/m磁场下真空热处理后,当N含量在5%~7%(原子百分数)范围内形成a′+a″相时,4πMs可达2.4T,Hc<80A/m,2~10MHz下高频相对导磁率μr=1500,可满足针对10Gb/in2存储密度的GMR/感应式复合读...
关键词:Fe-N系 磁性薄膜 软磁薄膜 结构 性能 硬盘 磁头材料 
RF溅射的Fe-N薄膜的磁导率研究被引量:1
《真空科学与技术》2001年第6期434-436,444,共4页顾有松 周剑平 李丹 常香荣 田中卓 方光旦 宋庆山 
国家自然科学重大项目资助课题 (1 9890 3 1 0 ; 1 93 92 3 0 0 )
研究了用RF溅射法制备的Fe N薄膜经过 2 50℃磁场热处理后高频磁导率的变化情况。实验结果发现 ,在优化生长条件下生长的Fe N薄膜样品 ,在 1~ 1 0MHz的频率范围内 ,易磁化方向的高频磁导率较小 ,但其难磁化方向的相对磁导...
关键词:磁导率 FE-N薄膜 磁场热处理 RF溅射法 铁-氮薄膜 磁记录介质 磁场 热处理 
利用射频磁控溅射制作高性能铁磁性薄膜的研究
《材料工程》1998年第5期31-33,共3页夏洋 于广华 朱逢吾 肖纪美 方光旦 宋庆山 熊鑫恩 
讨论了用射频(RF)磁控溅射制作铁磁性薄膜工艺,合适的工艺参数能够获得较低的矫顽力Hc=6Oe。用X射线光电子能谱(XPS)和原子力显微镜(AFM)研究膜表面情况及氧化深度。
关键词:巨磁电阻 薄膜 铁磁性 射频磁控溅射 
关于溅射条件对RF溅射Al_2O_3膜应力的影响的研究
《计算机研究与发展》1992年第7期50-55,共6页宋庆山 
本文简述了淀积于基片上的薄膜中的应力的计算理论的演变过程.评价了每种计算公式的优缺点.这些方法统称为"弯梁法".详细报导了溅射条件对溅射Al_2O_3膜应力的影响的实验结果.
关键词:溅射 Al2O3膜 
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