骆公序

作品数：20被引量：35H指数：4
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发文主题：激光晶圆紫外激光计算机控制系统光纤激光更多>>
发文领域：电子电信金属学及工艺自动化与计算机技术机械工程更多>>
发文期刊：《数字技术与应用》《应用激光》更多>>
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基于正交试验的激光标识工艺研究被引量：1
《应用激光》2022年第6期56-61,共6页骆公序 陈媛 张玲玲 李国旗 杜远超 舒天娇 
2019年工业互联网创新发展工程-工业互联网标识解析二级节点(航空航天行业应用服务平台)项目(招标编号:TC190A3X8-16)。
采用1060 nm光纤打标机在2024铝合金表面进行方形标识,主要研究扫描速度、填充间隔、激光平均功率等工艺参数对铝合金材料表面标识效果的影响。基于正交试验的方法,根据3因素5水平正交表设计激光加工的工艺参数,利用色差仪和超景深三维...
关键词：激光直接标识 表面粗糙度 色差 正交试验 
超短脉冲激光切割设备中mark点形状选择对振镜标定精度的影响研究被引量：1
《应用激光》2021年第3期583-589,共7页黄羲凌 刘昆 王丽 汪于涛 张磊 骆公序 
上海市科委项目(19511130400)。
采用振镜进行加工的激光切割设备,为了提高切割精度,首先需要对振镜进行标定,通行的标定方法是使用振镜在金属片或其他刚性材料上切割出一组具有固定图案(通常被称作mark点)的阵列,然后用相机逐一读取该阵列中每个图案的具体位置,据此...
关键词：振镜 mark点形状 误差 精度 
激光退火技术在半导体领域的应用被引量：3
《应用激光》2020年第6期1099-1109,共11页李文兵 汪于涛 骆公序 王丽 
激光退火技术,以较低的热预算,可以在瞬间达到较高的退火温度,工艺过程高度可控,制程可重复性好,已经广泛应用于半导体工业界。本文将简要介绍激光退火技术早期的机理研究,以及在硅基太阳能电池,平板显示,集成电路,和微纳米制造等领域...
关键词：激光退火 硅太阳能 平板显示 集成电路 微纳米制造 
皮秒激光脉冲串对单晶硅切割质量影响被引量：1
《应用激光》2020年第5期878-883,共6页汪于涛 袁山山 骆公序 李文兵 王丽 陈亮 沈佳骏 
上海市科委项目(项目编号:19511130402)
利用紫外皮秒激光器脉冲串模式对单晶硅材料进行切割测试研究,分析了不同子脉冲数量情况下单脉冲能量变化对热影响区大小、表面形貌效果、切缝宽度以及切割深度的影响。研究结果表明,脉冲串模式可以有效地降低热影响区,减少重熔层的产...
关键词：脉冲串 单晶硅 热影响区 表面形貌 
皮秒激光单晶硅切割工艺研究被引量：5
《应用激光》2020年第4期718-723,共6页汪于涛 王丽 骆公序 袁山山 沈佳骏 
上海市科委项目(项目编号:19511130400)
利用紫外皮秒激光器对单晶硅材料进行切割实验研究,探讨不同激光能量密度、光斑重合度、切缝宽度及切割次数对切缝表面形貌和切割深度的影响。通过不同单脉冲能量的打孔实验测得在波长355 nm、脉宽12 ps的情况下,单晶硅的损伤阈值为3.22...
关键词：激光切割 单晶硅 损伤阈值 表面形貌 
紫外皮秒激光刻蚀体硅工艺研究被引量：6
《应用激光》2019年第6期1002-1005,共4页骆公序 荆超 汪于涛 王丽 沈佳俊 
上海市科委资助项目(项目编号:18560730900,19511130400)。
针对体硅的加工应用,开展皮秒紫外激光三维刻蚀单晶硅工艺研究。通过工艺实验,得出在激光脉冲能量6μJ,固定XY点间距4μm,在单晶硅上刻蚀600μm×600μm方槽,单次去除的深度在1μm,单次加工用时0.5 s,加工的侧壁在14°,可以获得较好的20...
关键词：激光应用 体硅工艺 激光直接加工 紫外皮秒激光 
基于532nm波长纳秒激光器的玻璃切割工艺研究被引量：2
《应用激光》2015年第4期493-499,共7页沈佳骏 骆公序 潘涌 刘中俊 姜兆华 
上海市科学技术委员会资助项目(项目编号:2013-108);上海市科学技术委员会资助项目(项目编号:2014-105);上海张江国家自主创新示范区资助项目(项目编号:201309-XH-CHJ-A0-002);上海市经济和信息化委员会专项资助项目(项目编号:13XI-06)
基于EdgeWave GmbH 532nm波长的纳秒激光器,通过改变激光加工参数进行玻璃切割工艺实验,研究激光工艺参数对玻璃切割效果的影响。实验表明,通过对电流大小、填充间隔、分层切割和切割速度等激光参数的优化,能够加工出边缘光滑、无横向...
关键词：纳秒激光器 532nm波长 玻璃切割 工艺参数 切割效果 
DMD数字微镜驱动控制系统分析及其应用被引量：3
《应用激光》2012年第3期212-216,共5页姜兆华 吴宾初 潘涌 安博言 骆公序 张伟 
上海市科学技术委员会应用技术开发专项资金资助项目(项目编号:2010-212)
数字微反射镜器件(DMD)是数字式光处理(DLP)投影显示技术的核心,有着巨大的应用潜力。叙述了DMD的控制原理和特点。首先,基于DMD数字微镜控制器的驱动控制系统和采用二进制脉宽调制(BPWM)技术精确控制光源,接收PC机传输的实时图像显示数...
关键词：DMD DMD驱动控制 二进制脉宽调制 灰度投影光刻 DLP技术 激光投影 
基于数字微反射镜的激光直写系统中控制软件的设计
《数字技术与应用》2012年第2期140-141,共2页王国庆 龙沪强 姜兆华 骆公序 
上海市科学技术委员会应用技术开发专项资金项目(项目编号:08-205)
激光直写系统实现了数码面阵图像输入方式。对于大面积3D或光学可变图像,可以用面积分割法将大图像分割成许多小区域图像。计算机软件逐个完成小区域3D或光学可变图像,最后拼成最终图像。另一种方法,也可以采用分色显示图层,逐层光刻,...
关键词：DMD控制 数字微反射镜 BMP文件结构 BMP显示 
晶体硅太阳能电池激光精细加工技术研究
《应用激光》2011年第6期469-472,共4页潘涌 姜兆华 骆公序 王国庆 安博言 
上海市科学技术委员会应用技术开发专项资金项目(项目编号:09-110)
为提高晶体硅太阳能电池的转换效率,采用532 nm与355 nm纳秒激光器及10.6μm射频二氧化碳激光器对晶体硅太阳能电池的绒面制作、边缘隔离工艺以及电池前电极激光制作进行了实验研究,获得了相关的工艺参数。
关键词：晶体硅太阳能电池 激光精细加工 绒面 边缘隔离 前电极 
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