林海青

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表面光电压法研究氧化工艺铁离子沾污
《半导体光电》2013年第4期600-602,606,共4页廖乃镘 林海青 向华兵 李贝 李仁豪 
表面光电压法(SPV)能精确测量硅片的Fe离子浓度,是一种快速、非破坏性的高灵敏度测试方法。采用表面光电压技术研究了氧化工艺中的Fe离子沾污。研究表明,氧气、氮气、三氯乙烯中含有的微量杂质是氧化工艺中Fe离子沾污的主要来源。通过...
关键词：电荷耦合器件 氧化工艺 Fe离子沾污 表面光电压 
不同源漏掺杂方式对CCD放大器的影响
《半导体光电》2013年第4期603-606,共4页王晓强 林海青 许青 韩恒利 
通过对CCD片上放大器不同源漏掺杂条件、方块电阻、接触电阻、有效沟道长度的分析研究,确定了源漏工艺条件为磷离子注入能量100keV、剂量5×1015 cm-2。分析了扩散、离子注入源漏掺杂对放大器直流输出的影响,结果表明,当宽长比为4/1时,...
关键词：放大器 离子注入 沟道长度 直流输出 
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