刘俊杰

作品数：2被引量：7H指数：1
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供职机构：河北工业大学电子信息工程学院更多>>
发文主题：化学机械抛光一致性硅通孔有机胺更多>>
发文领域：电子电信更多>>
发文期刊：《微电子学》《半导体技术》更多>>
所获基金：天津市自然科学基金河北省自然科学基金国家科技重大专项河北省科技计划项目更多>>
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用于TSV硅衬底的碱性抛光液研究被引量：1
《微电子学》2017年第3期424-428,共5页刘俊杰 李海清 马欣 刘玉岭 牛新环 王如 
国家02重大专项资助项目(2016ZX02301003-004-007);河北省自然科学基金资助项目(E2013202247;F2015202267);天津市自然科学基金资助项目(16JCYBJC16100)
在穿透硅通孔(TSV)工艺中,研究了碱性抛光液组分的组合方式和抛光液的稀释倍数对硅衬底去除速率的影响。分析了硅衬底的去除机理;研究了抛光液对Si/Cu去除速率的选择性;研究了抛光液的存储时间不同时pH值和硅衬底去除速率的变化。该抛...
关键词：穿透硅通孔 化学机械抛光 抛光液 
有机胺碱对硅通孔铜膜化学机械抛光的影响被引量：6
《半导体技术》2017年第1期37-42,共6页刘俊杰 刘玉岭 牛新环 王如 
国家科技重大专项资助项目(2016ZX02301003-004-007);河北省自然科学基金资助项目(E2013202247;F2015202267);河北省科技计划资助项目(15211027);河北省博士后择优资助项目(B2015003011);河北省高校研究资助项目(ZC2016027);天津市自然科学基金资助项目(16JCYBJC16100)
有机胺碱可与铜离子反应且产物在碱性条件下溶于水,这为硅通孔(TSV)铜膜的碱性化学机械抛光(CMP)提供了有利条件。研究了大分子有机胺碱对铜膜化学机械抛光的影响。首先测试了不同体积分数有机胺碱对碱性抛光液中磨料粒径和Zeta电位的影...
关键词：硅通孔 有机胺碱 铜膜 化学机械抛光 一致性 
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