微波毫米波单片集成电路与模块国家级重点实验室基金(9140C1406020708)

作品数：4被引量：4H指数：1
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相关作者：范超陈堂胜叶玉堂焦世龙陈辰更多>>
相关机构：电子科技大学微波毫米波单片集成和模块电路国家级 重点实验室南京电子器件研究所更多>>
相关期刊：《微电子学》《光学学报》《固体电子学研究与进展》《光电工程》更多>>
相关主题：光接收机前端光电集成电路跨阻放大器OEIC光电集成更多>>
相关领域：电子电信更多>>
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光电集成光接收机前端及限幅放大器的研制被引量：3
《光学学报》2010年第3期777-781,共5页范超 陈堂胜 杨立杰 冯欧 焦世龙 吴云峰 叶玉堂 
单片集成电路与模块国家级重点实验室基金(9140C1406020708)资助课题
基于国内的材料生产和半导体工艺条件,研制了10 Gb/s光电集成(OEIC)光接收机前端,并采用耗尽型赝配高电子迁移晶体管(PHEMT)设计并实现了限幅放大器。光接收机前端组成形式为金属-半导体-金属(MSM)光探测器和电流模跨阻放大器,借助模拟...
关键词：集成光学 金属-半导体-金属光探测器 电流模跨阻放大器 限幅放大器 
OEIC台面腐蚀工艺研究
《固体电子学研究与进展》2009年第2期241-244,共4页范超 栗锐 陈堂胜 杨立杰 冯欧 冯忠 陈辰 焦世龙 叶玉堂 
单片集成电路与模块国家级重点实验室基金(No.9140C1406020708)
深入研究了牺牲层腐蚀机制,摸索出完整的台面自停止工艺并实际应用于OEIC器件制作。实验中发现了侧蚀、台面变形以及表面清洁等问题。从实验现象着手分析,并由此对工艺进行了改进,采用了新的腐蚀剂和工艺步骤。改进后的工艺解决了上述问...
关键词：腐蚀自停止 光电集成电路 台面工艺 
5Gb／s单片集成光接收机前端模拟仿真及研制
《光电工程》2008年第11期29-32,72,共5页范超 陈堂胜 陈辰 焦世龙 陈镇龙 刘霖 王昱琳 叶玉堂 
单片集成电路与模块国家级重点实验室基金(9140C1406020708)
基于0.5μmGaAs PHEMT标准工艺研制了850nm单片集成光接收机前端,集成方式为PIN光探测器和跨阻放大器。论文依据已发表的文献数据为基础并借助SILVACO公司的模拟软件建立探测器模型,实验结果表明,模型和实测结果对比有较好的一致性。光...
关键词：光电集成电路 PHEMT PIN 跨阻放大器 ATLAS 
短波长OEIC光接收机前端设计及制作被引量：1
《微电子学》2008年第5期713-717,共5页范超 陈堂胜 陈辰 焦世龙 陈镇龙 刘霖 王昱琳 叶玉堂 
单片集成电路与模块国家级重点实验室基金资助项目(9140C1406020708)
基于国内的材料和工艺技术,研制出850nm单片集成光接收机前端,集成形式包括PIN/TIA、PIN/DA、MSM/TIA和MSM/DA等。对光探测器和电路分别进行了研究和优化。通过Silvaco软件,建立了探测器器件模型,并通过实验数据验证。分布放大器-3dB带...
关键词：光电集成电路 光接收机前端 PIN 金属-半导体-金属 跨阻放大器 分布参数放大器 
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