原子层沉积

作品数：428被引量：575H指数：10
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TMA脉冲和吹扫时间对原子层沉积的氧化铝薄膜的影响被引量：3
《功能材料》2017年第7期7178-7181,共4页李春亚 张浩 宋建涛 丁星伟 魏斌 
国家重点基础研究发展计划(973计划)资助项目(2015CB655005);上海科委资助项目(16142202900);国家博士后基金资助项目(2015M580315)
采用原子层沉积技术(ALD)进行Al_2O_3薄膜工艺研究,获得85℃低温Al_2O_3薄膜ALD的最佳工艺条件。使用椭偏仪测试厚度,使用扫描探针显微镜对薄膜表面形貌进行分析,使用紫外-分光光度计对薄膜的透过率进行分析,所用水汽透过率测试仪器是...
关键词：原子层沉积 AL2O3薄膜 三甲基铝 脉冲 
一种pin结构光电器件的研究
《光学仪器》2016年第5期412-415,422,共5页袁晓贤 隋国荣 
国家重点基础研究发展计划(2015CB352001)
pin器件在整流和探测领域都有着重要的潜在应用价值。为了提高器件伏安和光电探测性能,提出了一种新型的p-硅/i-氧化铝/n-掺铝氧化锌(AZO)结构器件,并利用原子层沉积技术(ALD)在低温下实现了器件制备。分析了器件的伏安特性,结果显示相...
关键词：PIN结构 原子层沉积(ALD) 整流比 遂穿效应 
大尺寸陶瓷膜原子层沉积过程的CFD模拟被引量：1
《化工学报》2016年第9期3720-3729,共10页朱明 汪勇 
国家重点基础研究发展计划项目(2015CB655301);江苏省自然科学基金项目(BK20150063);江苏省优势学科资助项目(PAPD)~~
陶瓷膜具有耐高温、耐酸碱、强度高等优点,在液体分离领域得到了广泛应用。对陶瓷膜进行表面改性,可进一步提升其性能,但基于表面化学反应的改性方法工艺过程复杂,难于控制。原子层沉积(atomic layer deposition,ALD)是基于表面自限制...
关键词：原子层沉积 陶瓷膜 计算流体力学 纳米结构 
纳米结构的倾斜角度沉积及性能优化
《材料科学与工艺》2016年第3期1-8,共8页马菱薇 周钦 张政军 
国家重点基础研究发展计划资助项目(2013CB934301);国家自然科学基金资助项目(51531006;51572148);教育部科学技术研究基础项目(113007A);清华大学创新科学研究计划项目
纳米材料发展的关键是纳米结构的制备、形貌调控和性能优化.倾斜角度沉积是以较大的角度(大于75°)倾斜入射沉积薄膜,通过控制沉积参数,得到具有特殊形貌纳米结构的方法,具有适用范围广,操作便捷,制备的薄膜面积大、纯度高、结构规整等...
关键词：倾斜角度沉积 纳米结构 抗反射膜 表面增强拉曼 原子层沉积 
ALD沉积HfO_2薄膜生长行为及其调控被引量：3
《稀有金属材料与工程》2015年第11期2907-2912,共6页聂祥龙 马大衍 徐可为 
国家重点基础研究发展规划("973"计划)(2010CB631002);国家自然科学基金资助(51171145)
采用原子层沉积(ALD)的方法,选择四二乙基氨基铪(TDEAH)和水作为反应前驱体,在p型(100)单晶硅衬底上制备了HfO_2高介电质薄膜。系统研究了前驱体流量、反应气压、反应温度等工艺参数对HfO_2薄膜生长质量的影响。通过工艺调控,发现存在...
关键词：高介电质薄膜 HFO2 原子层沉积 生长行为 
低温原子层沉积氧化铝作为有机电致发光器件的封装薄膜被引量：9
《发光学报》2014年第9期1087-1092,共6页杨永强 段羽 陈平 赵毅 
科技部国际科技合作项目(2014DFG12390);国家高技术研究发展计划(2011AA03A110);国家重点基础研究发展计划(2010CB327701;2013CB834802);国家自然科学基金(61275024;61274002;61275033;61377206;41001302);吉林省科技发展计划(20140101204JC;20130206020GX;20140520071JH);长春市科技发展计划(13GH02)资助项目
为了克服传统的原子层深沉积反应温度高于有机材料的玻璃化温度对有机电致发光器件性能产生破坏的缺点,使用低温原子层沉积的方法沉积了Al2O3薄膜,成功地实现了对OLED的薄膜封装。实验中为了抑制环境温度对ALD薄膜均匀性的影响,增加了...
关键词：原子层沉积 薄膜均匀 低温 
有机/无机/有机结构的封装薄膜水汽透过率研究被引量：4
《光电子．激光》2014年第9期1721-1726,共6页高强 杨丹 杨永强 陶冶 刘云飞 段羽 陈平 
国家科技计划项目(2014DFG12390);国家高科技研究发展计划(2011AA03A110);国家重点基础研究发展计划(2010CB327701;2013CB834802);国家自然科学基金(61275024;61274002;61275033;6137706;41001302);吉林省科技发展计划(20140101204JC;20140520071JH);长春市国际合作科技计划(13GH02);集成光电子国家重点实验室开放课题(IOSKL2012KF01)资助项目
为了减少原子层沉积(ALD)方法在氧化物薄膜制备过程中ALD反应气对有机电致发光器件(OLED)性能的影响,利用旋涂光交联聚合物技术,直接在OLED上形成有机/无机/有机3层结构的保护薄膜。通过扫描电子显微镜(SEM)、原子力显微镜(AFM)的表面...
关键词：原子层沉积(ALD) Ca电学测试 有机/无机/有机3层封装结构 
有机电致发光器件的新型薄膜封装技术研究被引量：7
《光电子．激光》2014年第5期840-844,共5页骆杨 李天骄 段羽 
国家高科技研究发展计划(2011AA03A110);国家重点基础研究发展计划(2010CB327701);国家自然科学基金(61275024,61274002,60706018,60906021,60977024,60876032,60907013);吉林省科技发展计划(201101034);教育部高等学校博士学科点专项科研基金(20070183088)资助项目
针对有机电致发光器件(OLED)在空气中水汽和O2作用下寿命下降的问题,提出一种对OLED进行薄膜封装方法。封装薄膜由电子束蒸镀Al2O3薄膜和原子层沉积(ALD,atomic layer deposition)Al2O3薄膜相结合形成。利用Ca薄膜电学测试方法测定封装...
关键词：薄膜封装 水汽透过率(WVTR) 原子层沉积(ALD) 
氧化铝钝化在晶体硅太阳电池中的应用被引量：9
《微纳电子技术》2011年第8期528-535,共8页吴大卫 贾锐 武德起 丁武昌 陈伟 陈晨 岳会会 刘新宇 陈宝钦 
国家重点基础研究发展计划(973计划)资助项目;攀登计划课题资助项目(1J2006CB604904);国家面上资助项目(110360676001);中国科学院知识创新工程领域前沿资助项目(5406SF053001)
首先,回顾了氧化铝钝化技术的发展历程,对制备氧化铝钝化薄膜的手段进行了总结,并且详细描述了氧化铝的材料性质和钝化的机理。其次,指出氧化铝薄膜的优点在于优异的场效应钝化特性和良好的化学钝化性质,因此可以应用于低掺和高掺p型硅...
关键词：硅表面钝化 氧化铝 原子层沉积 场效应钝化 烧结稳定性 
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