栅绝缘层

作品数:25被引量:35H指数:3
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柔性氧化物薄膜晶体管栅绝缘层的研究进展被引量:1
《材料导报》2024年第23期20-28,共9页谭海星 林剑荣 黄培源 彭憬怡 刘思 陈建文 徐华 肖鹏 
广东省科技计划项目(2022A0505020022);粤港澳智能微纳光电技术联合实验室资助项目(2020B1212030010);国家自然科学基金(61804029)。
柔性氧化物薄膜晶体管(Thin-film transistor,TFT)因具有迁移率高、电流开关比大、器件均一性好、柔韧性好和轻薄等优点而备受业界关注,广泛应用于柔性有机发光二极管(OLED)显示、柔性传感、仿生突触等领域。其中,栅绝缘层对柔性氧化物...
关键词:柔性 薄膜晶体管 栅绝缘层 高介电常数 
退火温度对基于Bi_(1.5)Zn_(1.05)Nb_(1.5)O_(7)栅绝缘层的ZnO-TFTs性能的影响
《电子学报》2022年第2期455-460,共6页张琦 叶伟 孙芳莉 萧生 杜鹏飞 
陕西省教育厅专项科学研究计划(No.17JK0144,No.18JK0151);陕西理工大学人才启动项目(No.SLGQD2017-19)。
具有高介电常数的Bi_(1.5)Zn_(1.05)Nb_(1.5)O_(7)薄膜存在氧空位和陷阱缺陷,因此,使用Bi_(1.5)Zn_(1.05)Nb_(1.5)O_(7)作为栅绝缘层的ZnO-TFTs具有高的界面费米能级钉扎效应和低的电学性能.为了解决这些问题,提高器件性能,本文采用射...
关键词:Bi_(1.5)Zn_(1.05)Nb_(1.5)O_(7)薄膜 氧化锌薄膜晶体管 射频磁控溅射 退火温度 电容密度 高介电常数 
基于超薄Al2O3栅绝缘层的低工作电压IGZO薄膜晶体管及其在共源极放大器中的应用被引量:4
《发光学报》2020年第4期451-460,共10页张浩 李俊 赵婷婷 郭爱英 李痛快 茅帅帅 原理 张建华 
国家杰出青年科学基金(51725505);上海科学技术委员会项目(18JC1410402,17DZ2281700);博士后创新人才计划(BX20180184)资助项目。
随着薄膜晶体管(Thin-film transistor,TFT)在各类新兴电子产品中得到广泛应用,作为各类电子设备的关键组件,其工作电压和稳定性面临着巨大挑战。为了满足未来高度集成化、功能复杂的应用场合,实现其低工作电压和高稳定性就变得异常重...
关键词:a-IGZO薄膜晶体管 Al2O3栅绝缘层 原子层沉积 共源极放大器 
Bi1.5Zn1.0Nb1.5O7栅绝缘层的SiO2修饰对ZnO-TFTs性能的影响
《电子学报》2019年第6期1344-1351,共8页叶伟 崔立堃 常红梅 
陕西省教育厅专项科学研究计划(No.17JK0144,No.18JK0151);陕西省工业自动化重点实验室项目(No.09JS045);陕西理工大学人才启动项目(No.SLGQD2017-19)
具有高介电常数的栅绝缘层材料存在某种极化及耦合作用,使得ZnO-TFTs具有高的界面费米能级钉扎效应、大的电容耦合效应和低的载流子迁移率.为了解决这些问题,本文提出了一种使用SiO 2 修饰的Bi 1.5 Zn 1.0 Nb 1.5 O 7 作为栅绝缘层的ZnO...
关键词:SIO2薄膜 氧化锌薄膜晶体管 修饰层 Bi1.5Zn1.0Nb1.5O7薄膜 射频磁控溅射 
阳极氧化法制备Mg-Al复合氧化物绝缘层的研究
《光电子技术》2018年第1期23-26,共4页杨耀杰 杨俊华 谭晓婉 李俊峰 李庆青 偰正才 
国家自然科学基金项目(10974136);深圳市重点实验室提升项目(JCYJ20130408172903817);深圳技术大学科研启动项目
栅绝缘层是薄膜晶体管(TFT)的关键组成部分,低成本及低温制备是其未来的发展方向。阳极氧化法是可以实现这些目的的制备工艺技术之一。本文首先采用电子束蒸发在150℃的玻璃基板上制备Mg-Al合金薄膜,然后使用阳极氧化法形成Mg-Al复合氧...
关键词:阳极氧化 栅绝缘层 Mg-Al复合氧化物 
柔性非晶InGaZnO薄膜晶体管栅绝缘层的研究被引量:2
《真空科学与技术学报》2018年第1期43-47,共5页刘国超 张磊 解海艇 周俨 董承远 
采用磁控溅射方法,在聚酰亚胺薄膜上室温制备了非晶铟镓锌氧(a-IGZO)柔性薄膜晶体管(TFT)。其中,栅绝缘层选择了不同厚度比例的氧化硅(SiO_x)与氧化坦(TaO_x)薄膜的搭配,对比研究了不同栅绝缘层结构的薄膜特性以及所对应的柔性TFT器件...
关键词:栅绝缘层 柔性薄膜晶体管 非晶铟镓锌氧 磁控溅射 
提高GaN功率器件开关频率的技术途径被引量:5
《半导体技术》2017年第1期1-9,共9页孙素静 赵正平 冯志红 
GaN基增强型高速开关器件是提升X波段微系统集成放大器工作效率的核心器件。介绍了凹槽栅结构、F-注入等制作GaN基增强型器件的关键技术,同时分析了场板、介质栅等对器件击穿特性的影响。针对影响GaN基功率器件开关特性的主要因素,重点...
关键词:GAN 开关频率 增强型 栅绝缘层 栅驱动电路 
Ta_2O_5-PMMA复合栅绝缘层对OFETs性能的影响(英文)被引量:1
《发光学报》2017年第1期70-75,共6页石晓东 王伟 李春静 任利鹏 尹强 
Supported by Natural Science Fundation of Hebei Province(F2012202075);Tianjin Natural Science Fundation(15JCYBJC52100)~~
选用五氧化二钽(Ta_2O_5)-聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)复合材料作为栅绝缘层制备了并五苯有机场效应晶体管(OFETs)。通过在Ta_2O_5表面旋涂一层PMMA可以降低栅绝缘层的表面粗糙度,增大其场效应晶体管的迁移率。研究了厚度在20~60 nm范围内的...
关键词:Ta2O5-PMMA 绝缘层 OFETs 迁移率 开关电流比 
基片温度对基于Bi1.5Zn1.0Nb1.5O7栅绝缘层的ZnO基TFT性能的影响
《半导体光电》2016年第3期331-337,共7页叶伟 任巍 史鹏 
国家自然科学基金项目(51332003,51202184);中国国际科学技术合作项目(2010DFB13640,2011DFA51880);中国“111工程”项目(B14040)
在不同基片温度(RT、300、400、500和600℃)下,采用射频磁控溅射法制备了ZnO薄膜和BZN薄膜。研究表明,所制备的BZN薄膜拥有非晶态结构,ZnO薄膜具有c轴择优取向,在基片温度为500℃时,获得低的漏电流(10-7 A/cm^2),比RT时的漏电流(10-4 A/...
关键词:铋基焦绿石BZN薄膜 ZnO基薄膜晶体管 射频磁控溅射 界面态密度 亚阈值摆幅 
PMMA栅绝缘层表面形貌对并五苯OTFT性能的影响
《微纳电子技术》2015年第9期554-558,580,共6页李雪飞 王伟 王帅 石晓东 
河北省自然科学基金资助项目(F2012202075)
影响有机薄膜晶体管(organic thin-film transistor,OTFT)器件性能的主要因素中,栅绝缘层表面形貌特性和薄膜厚度等有着非常关键的作用,会直接影响有源层材料的分子排列方式和整个器件的性能。以氧化铟锡(ITO)导电薄膜玻璃为衬底材料,...
关键词:有机薄膜晶体管(OTFT) 栅绝缘层 迁移率 聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA) 阈值电压 
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