等离子体源

作品数：251被引量：448H指数：10
导出分析报告
相关领域：理学金属学及工艺更多>>
相关作者：雷明凯李广宇熊紫兰张仲麟杨思泽更多>>
相关机构：大连理工大学细美事有限公司东京毅力科创株式会社朗姆研究公司更多>>
相关期刊：更多>>
相关基金：国家自然科学基金国家高技术研究发展计划国家教育部博士点基金辽宁省自然科学基金更多>>
-
在结果中检索

检索结果分析

结果分析中...
选择条件：
  • 期刊=表面技术x
共 条 记 录，以下是1-4
全选清除导出
参考文献引证文献引用追踪
视图：
排序：
2Cr13不锈钢活性屏等离子体源渗氮层组织与耐蚀性能被引量：4
《表面技术》2022年第6期300-306,共7页李广宇 李刚 雷明凯 
辽宁省教育厅科学研究经费项目(L2019004);营口市企业博士双创计划项目(QB-2019-06)。
目的探讨活性屏等离子体源渗氮技术提高马氏体不锈钢硬度与耐蚀性能的可行性。方法将2Cr13马氏体不锈钢进行350~550℃、6 h活性屏等离子体源渗氮处理,采用光学显微镜(OM)、电子探针显微分析仪(EPMA)和X射线衍射仪(XRD)分析渗氮层的组织...
关键词：活性屏等离子体源渗氮 马氏体不锈钢 渗氮层 相结构 硬度 耐蚀性能 
采用磁桶和同心等离子体源及材料源的等离子体淀积方法及设备
《表面技术》2006年第6期50-50,共1页
将导电金属涂敷材料从磁控溅射靶上溅射出来，利用带有射频能量的高密度等离子体使溅射出的导电金属涂敷材料在真空处理空间内离子化，射频耦合能量来自线圈，线圈位于真空室外面、绝缘窗后面，真空室壁面上的绝缘窗位于溅射靶的开口的...
关键词：等离子体淀积 等离子体源 磁控溅射靶 高密度等离子体 设备 料源 涂敷材料 等离子体密度 
大面积等离子体源
《表面技术》2004年第2期75-75,共1页
关键词：等离子体处理 等离子体源 腔室壳体 密封 东京电子株式会社 专利 
类金刚石薄膜的拉曼光谱研究
《表面技术》1998年第5期17-18,共2页朱昌 严一心 杭凌侠 
利用脉冲碳等离子体源可以直接在Si和Ge片镀制类金刚石薄膜.被镀制的类金刚石薄膜一般采用激光拉曼光谱仪进行定性分析.实验结果表明:SP^3成分含量与SP^2成分含量之比,与放电回路的电压有关,在一定电压范围内,随电压的增加,SP^3与SP^2...
关键词：类金刚石薄膜 碳等离子体源 拉曼光谱 镀膜 金属 
全选清除导出
共1页<1>
检索报告 对象比较 聚类工具 使用帮助 返回顶部