等离子体源

作品数：252被引量：450H指数：10
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螺旋波等离子体源中离子能量及其诊断
《真空》2021年第4期67-76,共10页姜开银 杨丽珍 刘忠伟 张海宝 陈强 
国家自然科学基金(批准号11875090、12075032、11775028);北京市自然科学基金(批准号1192008,KZ202010015022);北京印刷学院科研项目(Ea201901,Ee202001)。
介绍了一种具有广泛应用前景的新型等离子体源—螺旋波等离子体源,其特点是结构简单,可以产生高密度的等离子体。论文首先简述了螺旋波等离子体产生基本原理,并对螺旋波等离子体源的结构、加热机制以及天线形式与其能量耦合方式进行了...
关键词：螺旋波 结构 原理 离子能量分布 应用进展 
紧凑型微波ECR等离子体源的设计及其特性研究被引量：1
《真空》2021年第1期6-9,共4页柴昊 贾军伟 王斌 李鹏 崔爽 冯旭 李伟 刘展 李绍飞 陈权 
地面电推进试验、星载Langmuir探针地面标定等航天任务,均对等离子体参数的校准提出了需求。目前,等离子体参数的校准主要是在稳定的等离子体环境中,通过被测仪器与标准进行量值比对的方式实现,因此,获得稳定的等离子体环境是开展校准...
关键词：微波ECR源 等离子体校准 空间分布 稳定性 
等离子体源辅助磁控溅射法低温(200℃)制备多晶硅薄膜被引量：1
《真空》2012年第3期47-50,共4页朱明 苏元军 范鹏辉 徐军 
利用电感耦合等离子体辅助中频直流脉冲磁控溅射技术在200℃成功制备出多晶硅薄膜。详细介绍了等离子体源辅助磁控溅射技术制备多晶硅的工艺过程,并对辅助等离子体源放电功率对硅薄膜结晶度的影响进行了研究。利用拉曼散射、X射线衍射...
关键词：多晶硅薄膜 电感耦合等离子体 磁控溅射 拉曼散射 红外光谱 
SiC-C/SiC复合材料进行硼离子注入的工艺研究
《真空》2005年第3期23-26,共4页马国佳 张华芳 武洪臣 蒋艳莉 彭丽平 
叙述采用等离子体源离子注入法(PSII),对带有SiC涂层的C纤维增强SiC基(SiC-C/SiC)复合材料进行硼离子注入的工艺研究。通过朗缪尔单探针测量了等离子的密度,对注入剂量进行了估算。对复合材料采用加金属网的工艺,来提高离子注入能量。...
关键词：SiC-C/SiC 离子注入 复合材料 等离子体源 
等离子体源特性及其应用被引量：1
《真空》1998年第3期39-42,共4页李国卿 李剑锋 N.果瓦里 钟志源 
本文介绍了等离子体源的构造和性能，在较高真空条件下实现离子强化和镀膜一体化技术。氮离子流强达到８ｍＡ／ｃｍ２、氮化速度达到８０μｍ／ｈｒ，在材料表面形成良好的力学梯度，提高膜基结合力和服役寿命。
关键词：等离子体源 氮化 镀膜 耐蚀性 
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