低压化学气相淀积

作品数：26被引量：46H指数：4
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相关机构：中国科学院微电子研究所中国工程物理研究院电子工程研究所东南大学中芯国际集成电路制造(上海)有限公司更多>>
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多晶硅薄膜制备方法与压阻特性的研究被引量：1
《传感器与微系统》2007年第4期18-20,共3页刘晓为 宋明浩 王喜莲 潘慧艳 揣容岩 
对磁控溅射和低压化学气相淀积(LPCVD)2种方法制备的多晶硅薄膜的电学和压阻特性进行了研究,并讨论了结晶化工艺对磁控溅射薄膜性质的影响。实验表明:LPCVD薄膜稳定性、重复性较好,应变系数可达到20以上;磁控溅射薄膜经适当结晶化工艺...
关键词：磁控溅射 低压化学气相淀积 多晶硅薄膜 应变系数 压阻特性 
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