化学机械研磨

作品数：85被引量：47H指数：3
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罗门哈斯公司推出新的ACuPLANE铜阻挡层CMP解决方案
《电子工业专用设备》2008年第9期69-69,共1页
罗门哈斯电子材料公司（Rohm and Haas Electronic Materials）旗下的研磨技术事业部（CMP Technologies）是全球半导体行业化学机械研磨（CMP）技术领域的领导者和创新者。该部门目前面向高级Cu／low—k材料互连应用产品推出了ACuPLAN...
关键词：罗门哈斯公司 CMP 阻挡层 罗门哈斯电子材料公司 化学机械研磨 铜 研磨技术 半导体行业 
罗门哈斯推出高级化学机械研磨(CMP)专用新型VISIONPAD^(TM)产品
《电子工业专用设备》2007年第8期60-60,共1页
在全球半导体行业化学机械研磨（CMP）技术及创新方面处于领先地位的罗门哈斯电子材料公司CMP技术事业部近日宣布其VisionPad？研磨垫系列又增添了二款新品。这二款产品可提供世界级的低生产缺陷率、极高的研磨能力和更长的使用寿命。
关键词：化学机械研磨 产品 罗门哈斯电子材料公司 CMP技术 半导体行业 使用寿命 研磨能力 缺陷率 
在集成电路量产中减少氧化膜CMP(化学机械研磨)的缺陷(英文)被引量：1
《电子工业专用设备》2003年第4期21-24,共4页张映斌 张世纬 张斐尧 衣冠军 
在超大规模集成电路的生产中,减少氧化膜CMP中的各种缺陷一直是工程师们的工作焦点之一。实际上这些缺陷的尺寸、形状、深度等能为我们寻找它们的根源提供许多有益的信息。例如:在肉眼下可见的长、直、深的划伤可能与研磨垫修整器有关;...
关键词：氧化膜CHP 缺陷 划伤 超大规模集成电路 
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