光学光刻

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制版、光刻、腐蚀与掩模工艺
《电子科技文摘》2000年第4期38-38,共1页
0005792改进定标曝光场的对准精度[刊,译]//电子工业专用设备.—1999,(4).—51～56(A)00057930.30μmi 线光刻的精确套准控制[刊.译]//电子工业专用设备.—1999,(4),—42～46(A)
关键词：专用设备 电子工业 光学光刻技术 对准精度 腐蚀 移相掩模技术 制版 工艺 定标 极紫外光刻技术 
制版、光刻、腐蚀与掩模工艺
《电子科技文摘》1999年第12期42-43,共2页
目前看来,193nm 光学光刻很有希望应用到0.13μm集成电路工业生产中去。本文从光源、照明系统、掩模、光刻胶、光刻机等方面对193nm 光学光刻技术进行了分析,并介绍了它目前的一些进展情况,最后对它的应用前景进行了简要分析。
关键词：光学光刻技术 分步重复投影光刻机 工艺流程 掩模台 集成电路 微电子技术 照明系统 应用前景 光刻胶 工业生产 
总论
《电子科技文摘》1999年第8期1-1,共1页
关键词：地方国有 总论 企业科技进步 光学光刻 评判模型 湖南省 企业负债经营 效益分析 积分 极限 
真空蒸发、淀积、溅射、氧化与金属化工艺
《电子科技文摘》1999年第8期36-37,共2页
介绍了产生等离子体的几种放电方式(如直流二极放电、射频放电、真空辉光放电、真空弧光放电等)、与等离子体相关的溅射沉积、离子镀沉积等常用的真空沉积技术及其在薄膜制备中的应用。
关键词：光学光刻 多层膜 真空蒸发 专用设备 金属化工艺 电子工业 制备 高分辨率光刻 磁控溅射法 电子回旋共振等离子体 
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