分步重复投影光刻机

作品数：18被引量：30H指数：3
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相关机构：中国科学院电子部中国科学院上海光学精密机械研究所更多>>
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0.8～1μm分步重复投影光刻机主要机构控制系统研制被引量：2
《电子工业专用设备》2000年第4期30-34,共5页罗正全 
传输片、预对准、调平及预调焦系统是分步重复投影光刻机的重要组成部分 ,其精度和运行可靠性对分步重复投影光刻机的整机性能指标将产生重大影响。介绍了 0 8～ 1 μm分步重复投影光刻机传输片、预对准、调平及预调焦控制系统的组成...
关键词：传输片 调平 分步重复投影光刻机 机构控制系统 
分步重复投影光刻机同轴对准数据处理被引量：3
《微细加工技术》2000年第1期41-44,共4页吕晓真 田宏 
介绍了 0 8～ 1 0 μm分步重复投影光刻机双光路光栅衍射同轴对准系统的构成及原理 ,详细讨论了对准数据的软件处理和计算方法 。
关键词：投影光刻机 同轴对准 数据处理 
制版、光刻、腐蚀与掩模工艺
《电子科技文摘》1999年第12期42-43,共2页
目前看来,193nm 光学光刻很有希望应用到0.13μm集成电路工业生产中去。本文从光源、照明系统、掩模、光刻胶、光刻机等方面对193nm 光学光刻技术进行了分析,并介绍了它目前的一些进展情况,最后对它的应用前景进行了简要分析。
关键词：光学光刻技术 分步重复投影光刻机 工艺流程 掩模台 集成电路 微电子技术 照明系统 应用前景 光刻胶 工业生产 
微细加工技术与设备
《中国光学》1999年第6期62-64,共3页
TN305.7 99063930照明条件对光刻成像图形质量的影响=Influence ofilluminating coildition on quality of patterns im-aged with photolithographic systems[刊,中]/罗先刚,陈旭南,姚汉民,冯伯儒(中科院光电所.四川,成都(610209))∥9...
关键词：分步重复投影光刻机 光电工程 技术研究所 中科院 亚微米 学术讨论会 四川 微细加工光学技术 国家实验室 成都 
半导体技术
《中国无线电电子学文摘》1999年第1期43-53,共11页
关键词：中国科学院 半导体技术 功能材料 电子束曝光机 工艺映射 光电技术 分步重复投影光刻机 量子阱 光电工程 光致发光 
亚微米分步重复投影光刻机总体设计考虑的几个问题被引量：2
《微细加工技术》1999年第1期25-30,共6页陈旭南 
介绍对亚微米分步重复投影光刻机光刻工作分辨力、套刻和生产能力三项主要技术指标的设计分析，方案考虑以及采取的技术措施。测试结果表明这些考虑是必要并且有效的，它为光刻机的研制成功打下基础，也为设计下一代指标要求更高的光刻...
关键词：光刻机 设计 工作分辨力 套刻 微电子器件 
0.35μm分步重复投影光刻机气浮工件台研究被引量：3
《微细加工技术》1998年第3期20-25,共6页王继红 唐小平 
本文阐述了气浮工件台的组成、工作原理及控制方法 。
关键词：重复投影光刻机 气浮工件台 半导体器件 光刻机 
分步重复投影光刻机同轴对准系统被引量：8
《光电工程》1998年第3期1-6,共6页郭京平 
国家"八五"科技攻关项目
对投影光刻机同轴对准系统进行了理论分析，阐述了系统的成象机理和工作过程，并在整机上检测了同轴对准系统的重复精度。该系统在掩模和硅片上均刻有对准光栅标记，经光栅衍射后形成干涉信号，使对准信噪比大大提高，并实现了掩模和硅...
关键词：分步重复光刻机 掩模对准系统 对准精度 光刻 
0.8～1μm分步重复投影光刻机六自由度硅片定位系统设计与计算被引量：3
《光电工程》1998年第3期7-11,共5页胡淞 苏伟军 
国家"八五"科技攻关项目
介绍用于０．８～１μｍ分步重复投影光刻机的六自由度硅片定位系统。讨论了气足、承片台系统及ＳＴＡＭＰ的设计和计算方法，并给出了设计数据与计算结果。本系统在Ｘ、Ｙ１、Ｙ２三个方向达到了±０．１μｍ（３σ）的重复定位精度、...
关键词：分步重复光刻机 定位系统 调焦 机构 调平 光刻 
0.8～1μm分步重复投影光刻机计算机实时控制系统接口设计被引量：1
《光电工程》1998年第3期27-31,共5页张正荣 
国家"八五"科技攻关项目
较详细介绍了０．８～１μｍ分步重复投影光刻机的主计算机实时控制系统接口设计，所有接口均采用隔离措施，各种类型接口都具有方便的再扩展功能，接口软件用ＢｏｒｌａｎｄＣ＋＋语言编写，可方便调配组合使用。
关键词：分步重复光刻机 接口 实时控制系统 光刻机 
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