胡淞

作品数：6被引量：20H指数：3
导出分析报告
供职机构：中国科学院光电技术研究所更多>>
发文主题：分步重复光刻机调平投影光刻机套刻光刻更多>>
发文领域：电子电信更多>>
发文期刊：《微细加工技术》《电子工业专用设备》《光电工程》更多>>
所获基金：“八五”国家科技攻关计划更多>>
-
在结果中检索

检索结果分析

署名顺序

  • 全部
  • 第一作者
结果分析中...
共 条 记 录，以下是1-6
全选清除导出
参考文献引证文献引用追踪
视图：
排序：
高精度逐场调焦调平实时动态控制算法研究被引量：1
《微细加工技术》1999年第3期35-40,共6页张津 姚汉民 唐小平 胡淞 
主要介绍一种高精度逐场调焦调平实时动态控制算法。逐场动态精确求解耦合传递矩阵和解耦矩阵，将每个 Ｃ Ｈ Ｉ Ｐ的坐标位置和尺寸纳入耦合关系，使各控制回路实时独立调节，以满足系统稳定和高精度实时逐场调焦调平。
关键词：逐场调焦调平 耦合传递矩阵 IC 光刻 
高精度逐场调焦调平控制系统数学模型分析
《电子工业专用设备》1999年第2期10-14,共5页张津 姚汉民 唐小萍 胡淞 
详细介绍了基于硅片ＣＨＩＰ中心坐标的高精度逐场调焦调平控制系统数学模型，并简要给出了系统控制算法。
关键词：逐场调焦调平 数学模型 控制系统 硅片 曝光 
投影光刻机的坐标系与套刻步进模型被引量：5
《微细加工技术》1998年第3期1-6,共6页胡淞 姚汉民 
本文介绍 0 .35μm(亚半微米 )投影光刻机的机器、硅片、掩模、硅片对准、掩模对准等的坐标系 ,并根据各坐标系讨论套刻时硅片工件台的步进模型。
关键词：投影光刻机 坐标系 步进模型 大规模集成电路 
0.35μm投影光刻机的逐场调平技术与套刻步进模型被引量：4
《光电工程》1998年第A12期42-46,共5页胡淞 姚汉民 张津 李展 曾晓阳 苏伟军 
介绍用于 0 .35μm投影光刻机的逐场调平技术 ,讨论其检测和控制原理 ,并作精度分析 ;讨论逐场调平对套刻精度的影响 ,并建立三轴测量逐场调平的套刻步进模型。
关键词：投影光刻机 逐场调平 步进模型 IC 
0.8～1μm分步重复投影光刻机六自由度硅片定位系统设计与计算被引量：3
《光电工程》1998年第3期7-11,共5页胡淞 苏伟军 
国家"八五"科技攻关项目
介绍用于０．８～１μｍ分步重复投影光刻机的六自由度硅片定位系统。讨论了气足、承片台系统及ＳＴＡＭＰ的设计和计算方法，并给出了设计数据与计算结果。本系统在Ｘ、Ｙ１、Ｙ２三个方向达到了±０．１μｍ（３σ）的重复定位精度、...
关键词：分步重复光刻机 定位系统 调焦 机构 调平 光刻 
高分辨力高导向精度柔性铰链调焦机构被引量：7
《光电工程》1998年第3期23-26,共4页胡淞 姚汉民 
中国科学院"八五"重大项目
介绍一种用于亚微米曝光系统的柔性铰链调焦机构，讨论了其设计与计算方法，这种机构得到了２０ｎｍ的分辨力、２００μｍ的行程和小于１弧秒的导向精度。这是一种适合纳米定位的理想机构。
关键词：分步重复光刻机 调焦机构 铰链 光刻机 
全选清除导出
共1页<1>
检索报告 对象比较 聚类工具 使用帮助 返回顶部