半导体硅

作品数：284被引量：363H指数：10
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X61 102082M-7PT型研磨机 X62 102082M-7PT型抛光机
《电子工业专用设备》2011年第7期66-67,共2页
1产品用途 本机是手机视窗玻璃、计算机触摸屏、光学玻璃等非金属硬脆材料的高精度双面研磨／抛光加工专用设备，也可用于半导体硅片、陶瓷、计算机支架零件等金属与非金属硬脆材料异形平行平面材料的双面研磨／抛光加工。
关键词：PT型 研磨机 抛光机 硬脆材料 抛光加工 双面研磨 半导体硅片 非金属 
X61 102082M-6PT型研磨机 X62 102082M-6PT型抛光机
《电子工业专用设备》2011年第7期67-68,共2页
1产品用途 本机是手机视窗玻璃、计算机触摸屏、光学玻璃等非金属硬脆材料的高精度双面研磨／抛光加工专用设备，也可用于半导体硅片、陶瓷、计算机支架零件等金属与非金属硬脆材料异形平行平面材料的双面研磨／抛光加工。
关键词：PT型 研磨机 抛光机 硬脆材料 抛光加工 双面研磨 半导体硅片 非金属 
X61 102082M-5PT型研磨机 X62 102082M-5PT型抛光机
《电子工业专用设备》2011年第7期68-69,共2页
1产品用途 本机是手机视窗玻璃、计算机触摸屏、光学玻璃等非金属硬脆材料的高精度双面研磨／抛光加工专用设备，也可用于半导体硅片、陶瓷、计算机支架零件等金属与非金属硬脆材料异形平行平面材料的双面研磨／抛光加工。
关键词：PT型 研磨机 抛光机 硬脆材料 抛光加工 双面研磨 半导体硅片 非金属 
X61 1020B2M-7PT型研磨机 X62 1020B2M-7PT型抛光机
《电子工业专用设备》2011年第6期57-58,共2页
1产品用途 本机是手机视窗玻璃、计算机触摸屏、光学玻璃等非金属硬脆材料的高精度双面研磨/抛光加工专用设备,也可用于半导体硅片、陶瓷、计算机支架零件等金属与非金属硬脆材料异形平行平面材料的双面研磨／抛光加工。
关键词：PT型 研磨机 抛光机 硬脆材料 抛光加工 双面研磨 半导体硅片 非金属 
X61 102082M-6PT型研磨机 X62 102082M-6PT型抛光机
《电子工业专用设备》2011年第6期58-59,共2页
1产品用途 本机是手机视窗玻璃、计算机触摸屏、光学玻璃等非金属硬脆材料的高精度双面研磨／抛光加工专用设备，也可用于半导体硅片、陶瓷、计算机支架零件等金属与非金属硬脆材料异形半行平面材料的双面研磨／抛光加工。
关键词：PT型 研磨机 抛光机 硬脆材料 抛光加工 双面研磨 半导体硅片 非金属 
X61 102082M-5PT型研磨机 X62 102082M-5PT型抛光机
《电子工业专用设备》2011年第6期59-60,共2页
1产品用途 本机是手机视窗玻璃、计算机触摸屏、光学玻璃等非金属硬脆材料的高精度双面研磨／抛光加工专用设备，也可用于半导体硅片、陶瓷、计算机支架零件等金属与非金属硬脆材料异形平行平面材料的双面研磨／抛光加工。
关键词：PT型 研磨机 抛光机 硬脆材料 抛光加工 双面研磨 半导体硅片 非金属 
关于EV Group
《电子工业专用设备》2007年第1期77-77,共1页
关键词：EV 半导体硅片 微机电系统 新技术应用 印刷技术 焊接市场 生产制造 半导体行业 
半导体硅片清洗工艺发展方向被引量：15
《电子工业专用设备》2004年第9期23-26,共4页闫志瑞 
对半导体硅片传统的RCA清洗办法中各种清洗液的清洗原理、清洗特点、清洗局限以及清洗对硅片表面微观状态的影响进行了详细的论述,同时在此基础上,对新的清洗办法(改进的RCA清洗办法)进行了一定的说明,指出了硅片清洗工艺的发展方向。
关键词：硅片 RCA清洗 硅片清洗 硅片表面 
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